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CM2000  注射液胶体磨

CM2000 注射液胶体磨

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产品报价:
10元
公司名称:
上海依肯机械设备有限公司
所在地区:
上海市
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产品型号:
CM2000
更新时间:
2016-10-26 21:58
厂商性质:
生产商
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(咨询请联系:上海依肯机械设备有限公司 袁天刚 壹捌贰贰壹肆壹陆柒零捌 公司有样

机供客户实验)

注射液胶体磨,德国注射液胶体磨 ,上海注射液胶体磨,注射液最高转速可以达到14000RPM。此款胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好。

注射液胶体磨 详细信息

 (咨询请联系:上海依肯机械设备有限公司  袁天刚  壹捌贰贰壹肆壹陆柒零捌 公司有样

机供客户实验)

注射液胶体磨,德国注射液胶体磨  ,上海注射液胶体磨,注射液最高转速可以达到14000RPM。此款胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好。

 

 注射液胶体磨  如 长效盐酸头孢噻呋注射液,由下述方法制得:将盐酸头孢噻呋原料药加入复合溶媒中搅拌,充分混匀得混悬液;将助悬剂加入注射剂溶媒中并在80℃~90℃下溶解得溶解液;将溶解液冷却至室温后加入到混悬液中,搅拌均匀得混合液;再加入抑菌剂于混合液中,加入剩余的注射级溶媒定至全量,搅拌混匀;然后过高速剪切分散机,再过胶体磨,灭菌,制得长效盐酸头孢噻呋注射液。本发明制备工艺操作简单,得到的混悬注射液均匀、重分散性好、流动性好、沉降慢。溶解度和稳定性好,猪肌内注射该制剂后消除半衰期长,可延长药物在体内的有效作用时间,减少用药次数。 

 

 

注射液胶体磨  如特别是一种硫酸头孢喹肟注射液及其制作工艺。该注射液的组成为含头孢喹肟不低于50g-300g的硫酸头孢喹肟微粉、抗氧剂0.4g-40g、脂类或酯类有机溶剂加至10000ml。制作工艺将抗氧剂溶于脂类或酯类有机溶剂,过滤至混合罐中,将硫酸头孢喹肟微粉加入,搅匀,过胶体磨磨细,制成均匀的混悬液,搅拌、分装、灭菌。本发明解决了现有技术存在的国内没有第四代动物专用头孢类抗菌素的问题,具有所制备的产品与第三代头孢菌素相比,抗菌谱更广,抗菌活性更强,对细菌产生的β-内酰胺酶更稳定,填补了国内没有第四代动物专用头孢类抗菌素制剂的空白,整体制备工艺简单易行。 

 

 

注射液胶体磨  由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。 

 

  注射液胶体磨优点:

• 结合优良的研磨效果的高吞吐量

• 定制不同的研磨刀头,实现多种研磨剪切速率

• 为减少颗粒大小的控制,可无限调整定子/转子之间的间隙设置

• IKN胶体磨CM与生产系统的密实度作为机器联机设计的结果。

• 适合于粘度高达50,000 mPas的各种粘度范围的物料

• 能在高达16 bar的压力下操作

• 容易扩大规模生产,从实验室机器MK开发到生产机器MK

• 所有接触液体的部件为316L或316Ti不锈钢

• 具有耐磨材料的高性能机械密封密封

• 高质量的表面处理,便于清洗

• 可根据要求提供其他材料和表面处理

• 机器可自动排水, 具有CIP和SIP功能

• 噪音低

• 根据符合EHEDG(欧洲卫生工程设计集团)准则制造

• 符合3A卫生和认证

• 根据需要提供制药

• 根据提供的ATEX 95指导方针执行防爆

注射液胶体磨,德国注射液胶体磨  ,上海注射液胶体磨,注射液最高转速可以达到14000RPM。此款胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好。

如有疑问请致电IKN工程师,IKN全体员工将竭诚为您服务!IKN主网站:www.iknchina.cn   www.iknchina.com   袁先生  18221416708  QQ:2389543894  alex@iknsh.com


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