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CM2000  实验室中试型胶体磨

CM2000 实验室中试型胶体磨

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产品报价:
10元
公司名称:
上海依肯机械设备有限公司
所在地区:
上海市
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产品型号:
CM2000
更新时间:
2016-12-10 23:49
厂商性质:
生产商
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实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。适合于大颗粒高粘度物料的研磨分散均质混合。

实验室中试型胶体磨 详细信息

实验室中试型胶体磨

 (咨询请联系:上海依肯机械设备有限公司  袁天刚  18221416708 公司有样

机供客户实验)

实验室中试型胶体磨

产品特性:分体式胶体磨,高剪切胶体磨,高速胶体磨,中试型胶体磨

产品简介:实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。适合于大颗粒高粘度物料的研磨分散均质混合。

品牌IKN 型号CM2000 所在地上海松江区 

上海依肯机械设备有限公司

详细介绍:

实验室胶体磨

实验室胶体磨

LP2000/4 (胶体磨块)

功率

2.2KW

转速

0-14000rpm

线速度

0-40m/s

尺寸(长X宽X高)

(450X250X350)mm

重量

30KG

操作条件

0-2.5bar

      实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

           CM2000/4实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

实验室中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

     公司另外一项独特的创新,就是锥体磨CMO2000系列,它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。
       研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和最后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。

 cm2000/4胶体磨

实验室胶体磨与中试型胶体磨的主要区别

 

 CM2000/4(PP系列)为中试型胶体磨的技术参数:功率2.2-4 KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时(水),重量45KG, 尺寸 (长宽高450X250X350)MM,PP使用双机械密封,可24小时不停机连续生产,并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块,可以实现多功能多用途。机械密封和机械设计符合3A健康标准,是中试和小批量生产的最佳选择。

CM2000/4(LP系列)为实验室胶体磨的技术参数:功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时(水),重量35KG,尺寸 (长宽高450X250X350)MM,LP使用轴封(PTFE 环),在正常的情况下,一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用,一般最多可以使用连续半个小时,这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块,可以实现多功能多用途。是中试生产的最佳选择。

如有疑问请致电IKN工程师,IKN全体员工将竭诚为您服务!IKN主网站:www.iknchina.cn   www.iknchina.com   袁先生  18221416708  QQ:2389543894  alex@iknsh.com


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