生长大面积光学窗口(红外窗口、激光输出窗口)、探测窗口、微波窗口等
品特点概述
适用范围:生长大面积金刚石薄膜(4-10英寸,甚至更大)
生长速度:可高达几?m-几十?m/h,甚至更高;
生长范围:可在直径100mm范围内生长、或者在直径300mm范围内生长。
微波等离子CVD系统(MPCVD syste 详细信息
研究及小规模生产型:
微波功率:2.45GHz,6KW, 脉冲模式可选 (提高沉积速度和质量);
样品台:直径75-100mm,旋转衬底可选(提高大面积均匀性);
真空系统:oil pump/dry pump,TMP可选(营造高真空基准);
控制方式:半自动或全自动(操作灵活);
生长速率:高达30μm/h.
整体特点:专门生长大面积热沉级、光学级多晶薄膜配置,适合于研发、小规模生产。
大面积光学级金刚石厚膜生产研究型:
微波功率:915MHz,30KW;
水冷衬底:直径250mm或更大; 衬底加热和衬底旋转可选.
4个4英寸衬底, 加热和旋转衬底可选
真空系统:oil pump / dry pump+TMP(营造高真空基准);
控制系统:全自动控制(适合大批量生产);
生长速率:高达30μm/h, 或更高速率
整体特点:专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置;可获得4-10英寸光学级金刚石厚膜,也可以用于研究合成曲面自支撑金刚石厚膜,请详细咨询!
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信息内容:适用范围:高纯度单晶生长及掺杂研究(for high purity single crystal diamond and doping research)、批量化生产单晶(for massive production of single crystal diamond)
详细内容>>
生长速度:可高达50?m/h,甚至更高;
生长范围:可在直径50mm范围内生长、或者在直径100mm范围内生长。
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上海续波光电技术有限公司是一家专业从事高性能薄膜沉积及处理设备、光电材料、光学软件等产品进口的技术贸易服务型公司,公司至今已与欧美、日本等国家的十余家企业建立了战略合作关系;目前服务于国内从事微电子、半导体、光学、纳米技术等领域的研究所和大学。主要产品包括:溅射、蒸发镀膜仪、离子减薄仪、刻蚀机、等离子处理设备、CVD金刚石沉积设备、激光辅助化学束沉积设备,红外窗口材料、各种功能CVD金刚石产品,光学设计、激光仿真、BSDF/BRDF测量仪、电磁场模拟仿真及测量仪器等模拟设计软件等。
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