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  PLD薄膜沉积系统

PLD薄膜沉积系统

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公司名称:
北京正通远恒科技有限公司
所在地区:
北京市
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产品型号:
更新时间:
2015-09-29 09:46
厂商性质:
代理商
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本网采购热线:0571-87756399
0571-87759942

PLD薄膜沉积系统是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A/pulse)。

PLD薄膜沉积系统 详细信息

PLD薄膜沉积系统技术参数:


型号

Pioneer240

Pioneer180

Pioneer120

Pioneer80

最大wafer直径

8”

6”

2”

1”

最大靶材数量

6个1” 或4个2”

6个1” 或4个2”

6个1” 或3个2”

4个1”

压力(Torr)

<10-8

<10-8

<10-8

<10-8

真空室直径

24”

18”

12”  

8”

基片加热器

8”,旋转

6”,旋转

3”, 旋转

2”,旋转

最高样品温度

850 ° C

850 ° C

950 ° C

950 ° C

Turbo泵抽速
(liters/sec)

800

260

260

70

计算机控制

包括

包括

包括

包括

基片旋转

包括

包括

-

-

基片预真空室

包括

选件

选件

-

扫描激光束系统

包括

选件

-

-

靶预真空室

包括

-

-

-

IBAD离子束辅助沉积

选件

选件

选件

-

CCS连续组成扩展

选件

选件

-

-

高压RHEED

选件

-

-

-

520 liters/sec泵

a/n

选件

-

-


PLD薄膜沉积系统主要特点:

*PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
*PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
*PLD节省成本:一束激光能够供多个真空系统使用。
*PLD高效率:在10至15分钟,可生长高质量的样品。
*PLD可升级:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD薄膜沉积系统作为生产工具的价值。


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