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ALD P-200 Pro  原子层沉积系统

ALD P-200 Pro 原子层沉积系统

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产品报价:
面议
公司名称:
北京正通远恒科技有限公司
所在地区:
北京市
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产品型号:
ALD P-200 Pro
更新时间:
2015-08-05 15:32
厂商性质:
代理商
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本网采购热线:0571-87756399
0571-87759942

PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的原子层沉积系统确保了最大的产出效率,并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。

原子层沉积系统 详细信息

原子层沉积系统技术参数
衬底尺寸和类型

最大300mm晶圆/单片
200mm晶圆25片/批次(标准间距)
150mm晶圆50片/批次(标准间距)
100mm晶圆75片/批次(标准间距)
高深宽比(HAR)样品
原子层沉积系统工艺温度

50 –500 °C
基片传送选件

预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )
半自动的机械装载
集群系统的批量装载(Cassette-to-cassette )
批量装载,带翻转传送系统(flipping mechanism)
真空批量装载
氮气柜装载
前驱体

液态、固态、气态、臭氧源、等离子体
源瓶容量传感器,并提供清洗和装源服务
6根独立源管线,最多加载12个前驱体源
重量

820 kg
尺寸 (W x H x D)

160 cm x 80 cm x 240 cm
选件

集群工具,PICOFLOW™ 扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,N2发生器,尾气处理
器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载),与工厂软件连接服务。
原子层沉积系统验收标准

标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,
其他工艺可具体协商:其他工艺、应用特别验收标准如:
--不均匀性
--颗粒物含量
--重金属污染
--电学性能 


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