电子束曝光技术是在计算机控制下,按照加工要求的图形,利用聚焦后的电子束对基片上的抗蚀剂进行曝光,在抗蚀剂中产生具有不同溶解性能的区域,根据不同区域的溶解特性,利用具有选择性的显影剂进行显影,溶解性强的抗蚀剂部分被去除,溶解性差或不溶的部分保留下来,就可以得到所需要的抗蚀剂图形。正文编辑区域参考资料编辑区域
查看详情电子束曝光技术是在计算机控制下,按照加工要求的图形,利用聚焦后的电子束对基片上的抗蚀剂进行曝光,在抗蚀剂中产生具有不同溶解性能的区域,根据不同区域的溶解特性,利用具有选择性的显影剂进行显影,溶解性强的抗蚀剂部分被去除,溶解性差或不溶的部分保留下来,就可以得到所需要的抗蚀剂图形。正文编辑区域参考资料编辑区域
查看详情摘要 上海伯东日本*适合小规模量产使用和实验室研究的离子蚀刻机, 一般通氩气 Ar, 无污染, 内部使用美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 产生轰击离子; 终点检出器采用 Pfeiffer 残余质谱监测当前气体成分, 判断刻蚀情况.
在线询价摘要 Leica EM ACE900 冷冻断裂系统在一台仪器中对样品完成冷冻断裂、冷冻蚀刻和电子束镀膜。通过旋转冷冻式载台,利用电子束进行高分辨率碳/金属复合镀膜,适用于任何TEM和SEM分析,可提供灵活的投影选择。
在线询价摘要 刻蚀设备PlasmaPro1000 Astrea新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蚀设备,该设备可以为PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蚀提供解决方案,有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。
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