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NI推出全新源测量单元 为业界精度高

仪表研发 2016年07月28日 15:42:49来源:电子产品世界 15697
摘要利用NI PXI SMU的高通道密度、高速的测试吞吐率和灵活性来实现晶圆级参数测试、材料研究以及分析低电流传感器和集成电路的特性等各种应用。

  【仪表网 仪表研发】近日,NI(美国国家仪器,National Instruments, 简称NI) 作为致力于为工程师和科学家提供解决方案来应对严峻的工程挑战的供应商,近日宣布推出NI PXIe-4135源测量单元(SMU),其测量灵敏度达10 fA,输出电压高达200V。工程师可以使用NI PXIe-4135 SMU来测量低电流信号,并利用NI PXI SMU的高通道密度、高速的测试吞吐率和灵活性来实现晶圆级参数测试、材料研究以及分析低电流传感器和集成电路的特性等各种应用。
  


图片来自网络

  “我们的顺序参数测试需要采集数百万个数据点,电流泄露通常在pA级。”IMEC研究人员Bart De Wachter博士表示, “在受益于PXI平台提供的高速度和LabVIEW的系统编程灵活性的同时,全新的NI PXI SMU可帮助我们地测量低电流信号。”
  
  模块化NI PXI SMU可帮助工程师来构建紧凑型并行高通道数系统,在单个PXI机箱中提供了高达68个SMU通道,而且可扩展至数百个通道来满足晶圆级可靠性和并行测试需求。 此外,用户还可利用高速通信总线、确定性硬件序列生成、以及使用数字控制回路技术对任意待测设备自定义调节SMU响应,从而提高测试吞吐量。工程师还可以通过软件控制SMU响应,避免了长时间等待SMU稳定,并可借助NI PXI SMU的灵活性来小化过冲和振荡,即使是在带有高电容性的负载的情况下也是如此。
  
  “半导体器件复杂性的增加要求我们重新思考传统的研究、特性分析和晶片可靠性测量方法,而这一直是我们投资PXI SMU的关键动力,”NI自动化测试总监Luke Schreier表示, “NI SMU降低了测量时间,提高了通道密度,而且现在更提供了更好的测量质量和高达10 fA的灵敏度。”
  
  NI PXI SMU不仅提供了台式SMU的易用性,其交互式软件前面板也可用于进行基本的测量和调试自动化应用。 驱动程序包含了帮助文件、文档描述和可立即运行的范例程序,可辅助测试代码开发,并包含了一个编程接口,可支持C、Microsoft .NET和LabVIEW系统设计软件等各种开发环境。工程师还可结合NI TestStand测试管理软件使用NI PXI SMU,简化实验室或生产车间的测试系统开发和部署。
  
  (原标题:NI发布业界高精度的PXI源测量单元 全新的低电流SMU提供了高达10 fA的电流灵敏度)

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