【仪表网 仪表产业】芯片制造所需的光刻机一直以来被荷兰ASML公司垄断，一台精密光刻机售价上百亿，而我国半导体行业起步较晚，光刻机技术与ASML的差距非常大。
ASML在7nm级别，而大族激光仅为μm级别(1μm是1000nm)。因为光刻机每上一个台阶技术难度就会大大增加，可能从90nm升级到65nm并不难，但是从65nm升级到45nm，就是一个技术节点了，上升到7nm更是难上加难。
光刻机是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。而光刻机是中国芯片发展的大障碍。据有关媒体报道，光刻机正成为华为的第四场战役。据悉，余承东在一次百人大会上的时候透露过，早在四年前，华为就已经为接下来集团的布局做好准备了，他们在2016年的时候就已经成立了团队去研发光刻机，现在已经取得了很大的进展。
大族激光8月10日在互动平台表示，公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的应用，目前已接到少量订单。
光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，光刻机号称世界上精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，*世界只有少数几家公司能够制造。
国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国)，日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的光刻机)和日本Canon三*品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
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