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氢氧化镁纳米分散机

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产品参考价:¥92000 举报
产品型号: GMD2000
厂商性质: 生产商
地: 上海市
更新时间: 2019-05-17 15:12:43
浏览次数: 28
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产品简介

品牌 适用领域 化工
容量 1000ml 功率 4000W
外形尺寸 350*450*250mm 重量 50kg
产地 进口 加工定制
氢氧化镁纳米分散机SGN纳米氢氧化镁分散机,是由胶体磨+高剪切分散机组成,形成一体化的设备,先研磨后分散,避免物料团聚。

详细介绍

一、产品名称概述:

氢氧化镁纳米分散机,纳米氢氧化镁分散机,氢氧化镁分散机,纳米分散机,氢氧化镁研磨分散机,纳米研磨分散机

 

二、物料介绍:(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)

1.氢氧化镁是塑料、橡胶制品优良的阻燃剂。在环保方面作为烟道气脱硫剂,可代替烧碱和石灰作为含酸废水的中和剂。亦用作油品添加剂,起到防腐和脱硫作用。另外,还可用于电子行业、医药、砂糖的精制,作保温材料以及制造其他镁盐产

2.在几乎不影响使用强度的情况下显著提高材料的阻燃、抑烟、防滴等性能,还可根据客户需要,在纳米氢氧化镁生成同时采用适当的原位改性方法,为专用阻燃氢氧化镁。

3.纳米氢氧化镁一般作为改性剂分散到某物质当中(如橡胶),从而改性物料的特性,ZUI大的用途便是作为助燃剂。改性的效果取决于纳米氢氧化镁的分散效果。纳米级的粉末分散到液体介质当中容易出现团聚现象,一般的分散设备无法解决这一难点,而SGN研磨式分散机可以很好的应对团聚的现象。
 

三、设备介绍:

1.SGN纳米氢氧化镁分散机,是由胶体磨+高剪切分散机组成,形成一体化的设备,先研磨后分散,避免物料团聚。

2.GMD2000系列研磨分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

3.GMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

4.DI一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5.第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

 

四、GMD2000系列研磨分散设备选型表(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)

 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

 

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