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NexION 2000S ICP-MS 检测高硅基体样品中的微量磷杂质

阅读:868      发布时间:2020-5-21
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 本文应用PerkinElmer创造的去除干涉技术—UCT(通用池技术)功能的NexION 2000S ICP-MS检测对含有大量硅的Hydrofluoric Acid介质中的磷的分析。

提供商

珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司

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