场扫描电子显微镜 返回列表页

在SUPRA™场发射场扫描电子显微镜基础上发展起来的ULTRA 场发射场扫描电子显微镜是用于纳米结构分析的电子束成像仪器中，它接收效率高、可以超高分辨率成像。新开发的能量选择式背散射电子探测器（EsB）和角度选择式背散射电子探测器（AsB）则代表了的GEMINI®技术的新发展。
ULTRA综合采用了用于形貌成像的GEMINI® In-len二次电子探测器、用于清晰的组分衬度的EsB探测器和用于采集晶体通道信息的AsB探测器。同步的实时成像与信号混合功能提供了成像能力。
EsB探测器包含有一个过滤栅网，通过它可实现高分辨率背散射电子成像，让以前无法看见的细节历历在目。EsB探测器包含有一个过滤栅网，通过它可实现高分辨率背散射电子成像，让以前无法看见的细节历历在目。
卡尔.蔡司*的荷电补偿功能在使用所有探测器时，都可以分析非导电样品
低加速电压时的超高分辨率二次电子和背散射电子成像
用于在纳米尺度上实现组分衬度成像的高效EsB / AsB探测器
精确控制的超大自动优中心（eucentric）样品台
背散射电子和二次电子信号的实时成像与混合功能
抑制不导电样品的荷电效应
用于X射线分析和背散射电子衍射（EBSD）应用的超稳定束流模式