低真空镀膜仪 Leica EM ACE200 返回列表页

Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下流行的触摸屏控制，简单方便。

主要技术参数

• 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

• 设计脉冲式碳丝蒸发方式，可控制碳膜厚度

• 可选石英膜厚检测器，控制镀膜厚度，精度达0.1nm

• 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

• 触摸屏控制，简单方便

• 真空度≤7×10 -3 mbar

• 溅射电流：0-150mA可调

• 方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

• 工作距离调节范围：30mm-100mm