纳米氧化锆防爆分散机 返回列表页

一、产品关键词

纳米氧化锆防爆分散机，纳米氧化锆研磨分散机，德国纳米氧化锆研磨机，纳米ZrO2分散机是分散是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。 

二、纳米氧化锆的介绍

ZrO2为无毒无味白色粉末，纯度99%以上、粒度40-50纳米、干燥失重小于0.3%、灼烧失重小于0.8%，溶于硫酸、氢fu酸,比表面积大，分散性好,具有良好的热化学稳定性、高温导电性和较高的强度和韧性，具有良好的机械、热学、电学、光学性质，纳米ZrO2粒径微小、稳定性强，具有耐酸、耐碱、耐腐蚀、耐高温的性能。 应用范围： 二氧化锆（ZrO2）是一种耐高温、耐磨损、耐腐蚀的无机非金属材料。随着电子和新材料工业的发展，ZrO2除传统应用于耐火材料和陶瓷颜料外，作为电子陶瓷、功能陶瓷、结构陶瓷和人造宝石的主要原料，在高技术领域的应用日益扩大。 用化学法制备的氧化锆超细粉，活性高，烧结性好，是制造高强度高韧性氧化锆基陶瓷的主要原料

1，纳米氧化锆可以用在高强度、高韧性耐磨制品：磨机内衬、切削刀具、拉丝模、热挤压模、喷嘴、阀门、滚珠、泵零件、多种滑动部件等。

2，功能陶瓷，结构陶瓷： 电子陶瓷、生物陶瓷

3.压电元件.氧敏电阻.大容量电容器; 

4.人造宝石 研磨材料

5.纳米氧化锆还可以耐火材料：电子陶瓷烧支承垫板，熔化玻璃、冶金金属用耐火材料；在高技术领域的应用日益扩大

纳米氧化锆粉体颗粒细化到纳米级后，其表面积累了大量的正、负电荷，纳米颗粒的形状极不规则，这样造成了电荷的聚集。纳米颗粒表面原子比例随着纳米粒径的降低而迅速增加，当降至1nm时，表面原子比例高达90%，原子几乎全部集中到颗粒表面，处于高度活化状态，导致表面原子配位数不足和高表面能。纳米颗粒具有很高的化学活性，表现出强烈的表面效应，很容易发生聚集而达到稳定状态，从而团聚发生

*纳米氧化物极易产生自身的团聚，使得应有的性能难以充分发挥。此外，纳米氧化物的诸多奇异性能能否得到充分发挥，还取决于zui大限度降低粉体与介质间的表面张力。因此，纳米氧化物粉体必须均匀分散，充分打开其团聚体，才能发挥其应有的奇异性能。 

三、纳米氧化锆有效发挥作用的关键是确保其在溶液中获得适当的分散。分散设计越好，则有效性越好。

目前，国x产品质量较好的企业使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本满足用户的需要。由于我们行业的特点，有相当多的中小企业分散设备十分落后，分散时根本形成不了剪切力，只是一种搅拌，气相二氧化硅在树脂中根本形成不了网状结构，从而无法发挥材料的性能。

造成这种情况的主要原因：

① 尚未对分散的作用有正确的认识．许多生产商并未意识到分散的重要性；

② 不知道对zui终产品的品质如何评价，

四、SGN高剪切分散机的介绍

分层是分散相在外力（重力或离心力）作用下，在连续相中上浮或下沉的结果。在忽略布朗运动效应的静态条件下，可用Stokes 定律来描述，即分散相球形颗粒由于重力的沉降速度 V 由下式确定：

式中ρs -ρ为分散相与连续相的密度差，g 为重力加速度，d 为分散相颗粒直径，μ为连续相的粘度。如果分散相颗粒的密度比连续相密度大，颗粒下沉，速度 V 为正值，反之，颗粒上浮，速度为负值。沉降速度大，浆料就容易分层。如果要保持体系稳定，就必须降低沉降速度，对于特定的浆料可以通过减小分散相固体颗粒直径 d。因为只有当粒径减至连续相液体分子大小时，颗粒才能稳定、均匀地分散在液体中不发生分离。

五、通过以上的分析我们可以看出，要提高悬浮液的稳定性，分散相颗粒的粒径应尽量细小。但应该指出，根据前人所做的大量研究发现，随着颗粒粒度的减小，虽然颗粒由重力引起的分离作用变为次要的因素，但是由于颗粒之间的间距减小，颗粒之间的结合力（范德华力等）起到了重要决定性作用。另外，当颗粒直径小于某一细小尺寸时，此时，颗粒的布朗运动效应就不能忽略了，所以由于细小颗粒的布朗运动，而使得颗粒之间产生激烈地碰撞。若不加稳定剂，这些情况都会导致颗粒团聚，对体系的稳定是不利的。所以浆料的分散中，颗粒粒径并非越细越好，要视浆料的特性而定。分散就是要根据物料的特性与特点，减小分散相颗粒的粒度，使其分布于一个较窄的尺寸范围，并达到吸力与斥力的相互平衡，从而保证浆料体系的稳定。

六、影响分散乳化结果的因素有以下几点

1、分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2、分散头的剪切速率 （越大，效果越好）

3、分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4、物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5、循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
SGN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

七、高剪切分散机的工艺

纳米氧化锆防爆分散机，高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求，思峻公司在GRS2000系列的基础上又开发出GRS2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm，转子的速度可以达到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度*,无需其他辅助分散设备,可以达到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.

八、高剪切设备的特点

（1）、GRS设备与传统设备相比：

高效、节能

（2）、传统设备需8小时的分散加工过程，GRS设备1小时左右完成，超细分散*，能耗极大降低；

高速、高品质

传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带分散功能的转速每分钟1500转以内，只完成宏观分散加工，超细分散能力极为有限；GRS设备的转速每分钟10000～15000转之间，超高线速度产生的剪切力，瞬间超细分散浆料中的粉体。