一、真空镀膜机技术参数：
镀膜机要求为PLC控制，包括蒸镀过程的控制、显示装置，可以显示膜厚、蒸镀时间、压力、加热温度等信息；
1. 系统设置和控制系统：
1.1 通过PLC进行设置和控制；
1.2 安全性能设计符合CSASPE-1000标准；
1.3 设有手动和自动两种镀膜操作模式；
1.4 系统集成有安全互锁机构和报警装置；
* 1.5 一体化、紧凑化设计，可独立使用也可与手套箱集成后使用；
1.6 不同账户的安全模式。
2 蒸镀腔室：
2.1 矩形蒸镀腔室，尺寸不小于450mmx365mmx365mm；
2.2 翻盖式方腔室结构；
2.3 腔室抛光处理并安装有隔离墙装置；
3 真空系统：
3.1 DS102机械泵，气体抽速不低于4cfm；
* 3.2 主泵普发分子泵，抽速不低于250l/s，配有InficonPirani真空规及计算机控制显示功能；
* 3.3 极限真空度：系统洁净、空置时可达5x10-7Torr ；
4.蒸发源的设计和安装：
4.1 系统安装有4个热阻蒸发源；
4.2 可以实现两个热阻蒸发源之间的共蒸；
*4.3 热阻蒸发源的电源功率不小于2.5kW；
4.4安装有2个QCM镀膜速率检测探头，带有水冷装置；
4.5安装有1个样品台挡板；
5 样品台的设计：
5.1可以固定或安装直径100mm或4"的样品或其它异形样品；
5.2样品台带有可以固定安装样品的装置；
5.3 样品台带有旋转功能，可调节范围0-50RPM；
6 镀膜控制装置：
* 6.1 镀膜操作分手动和自动两种模式，能预设参数，并能将相关操作进行储存，方便以后查询和调用，也可以导到电脑中进行保存。
6.2镀膜控制器，可多元化设计的共蒸功能；
6.3 SQS-310CInficon镀膜控制软件；
6.4通过PLC进行控制。
6.5主要技术要求：膜厚探测精度0.1Ǻ，镀膜沉积速率控制理论精度0./s，薄膜沉积速率稳定性在1%之内，膜厚不均匀性≤ +/-5%；
