应用：手机外壳，MP3外壳，数码相机外壳，表壳、表带、眼睛架、健身球、首饰、灯具、餐具、工艺美术品上，工具、刀具、模具等

发展：多弧离子镀膜始于上个世纪70年代，采用真空环境下引火器引燃弧光放电源（阴极）与真空室（阳极）之间形成自持弧光放电，使从阴极弧光辉点射出的阴极物质离子形成空间电荷层，产生强电场，使阴极表面上功函数小的开始发射电子；电流局部集中产生的焦耳热使阴极材料局部地爆发性地等离子化，发射电子和离子，同时也放出熔融的阴极材料，在工件偏压的作用下与反应器件化合而沉积在工件表面上，从而在工件上形成被镀的膜。多孤离子镀膜机离化率高沉积速度高，适用于镀制装饰膜和超硬耐磨膜。多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，结合磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀单层膜和各种复合膜层。如：金色的氮化钛，黑色的碳化钛，七彩的氮氧化钛等，亦可镀防腐蚀膜（如：AL、Cr不锈钢及TiN 等）。

配置和技术参数：

▲真空室箱体：304不锈钢1600*1800mm，并可以根据客户具体要求设计非标产品

　▲夹具方式：6轴公自转行星式齿轮结构，工件速度在1-30转/分钟可调。

　▲控制气体方式：采用质量流量计控制，进气稳定，反映速度快。

　▲多弧靶:15套三组多弧蒸发源，从上到下五个弧源一组，真空室体两侧个一组，门上一组

▲磁控溅射阴极：圆柱靶磁控溅射阴极一套，Ф80X1600；严格缜密的磁场设计和磁场布局，刻蚀均匀。

　▲抽真空参数：从大气抽至5*10‾³Pa≤15min 极限真空度8*10‾4Pa

　▲抽气系统：采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵，根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。

　▲电源：逆变电弧电源，磁控溅射可配置20KW中频电源或直流脉冲电源

▲PLC控制系统：有手动和自动，全系统具有互保护, 泵阀互锁

磁控多弧离子镀膜机应用