 | 天津中环电炉股份有限公司 |
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详细摘要：操作便捷性：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：操作便捷性：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：操作便捷性：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：操作便捷性：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：操作便捷性：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：操作便捷性；1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：操作便捷性：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：操作便捷性：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：产品应用：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：产品用途：此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：产品用途：此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：产品用途：此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：高温接触角测试仪可以实现高温高真空条件下对低熔点材料在升降温过程中的收缩、变形、融化、润湿、铺展、凝固行为进行图形化，定量化表征。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：操作便捷性：1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：可视化高温形变分析仪产品型号包括：TA-16B01、TA-Z16B01可以实现烧结过程膨胀收缩测试，控温精准、方便快捷、高自动化、省时省力、实时数据分析 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：3D打印陶瓷技术的引进，充分利用并挖掘3D打印技术的特点，可实现开发新型、*特色的陶瓷产品，采用通用陶瓷原料，如中白泥、高白泥、瓷泥、陶泥等原料。通过气动、电动联合驱动模式，将含水陶瓷泥料送入3D打印机打印头，通过预先设计的三维模型，实现陶瓷的三维自由成型，整体成型过程快速、清洁、高效，并呈现出与传统工艺不同的特点。 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。集成型PECVD系统PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系统PECVD-12IH-4Z/G 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。集成型PECVD系统PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系统PECVD-12IH-4Z/G 产品型号：所在地： 参考价：面议
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详细摘要：1750℃工作温度SX-G系列包括SX-G03173M台式、SX-G18173M立式高温箱式电炉，节能环保、使用安全性高，全自动产品，结构合理使用方便 产品型号：所在地： 参考价：面议
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