PLD 2000 中药混悬液均质机-均质器/均质机

中药混悬液均质机，浸膏混悬液均质机，药物混悬液均质机

【中药浸膏的简介】

    浸膏通常是指用有机溶剂浸提不含有渗出物的香料植物组织（如花、叶枝、茎、树皮、根、果实等）中所得的香料制品，成品中不含原用的溶剂和水分。中药浸膏是浸膏中用途和生产zui广泛的一种，得到各企业的亲睐。
     
 【中药干膏粉混悬液实验】
  
   将中药浸膏干粉加入到植物油当中，然后再加入一些辅料添加剂，*行预混合，将物料搅拌均匀，然后通过IKN三级高剪切均质机进行均质乳化，通过IKN均质机打一遍后，用手去摸基本没有颗粒感，相当于传统胶体磨研磨2天的效果。IKN均质机转速高达14000rpm，是传统设备的4-5倍，并且定转子间距小，定转子结构精密，这些都会决定设备的研磨均质的效果。IKN三级均质机工作腔体带夹套可以降温和加热，充分控制好物料的温度，避免物料变性。

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【中药浸膏纳米均质机的简介】

高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业的特殊要求，上海依肯在PLD2000的基础上又开发出PLD2000系列。其剪切速率可以超过10000rpm，转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒径分布就更窄。

【PLD2000系列产品与传统的设备对比】

⑴    传统设备需要8小时的分散过程，PLD2000设备1小时就可以完成，更加高效、节能。

⑵    传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带有分散功能的每分钟转速也在1500转之内，而PLD2000系列每分钟转速可达到5000-6000转，更加快速。超高的线速度产生的剪切力，使物料瞬间细化分散，从而获得更高品质的产品。
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【PLD2000系列与同类设备的对比】

①    发热问题。同类设备在加工过程中，高粘物料进入腔体后，因背压力大而输送效果差，导致物料在设备腔体中停留时间过长而导致严重发热。PLD2000系列设备在确保效果的基础上，减小了背压阻力，提高了输送能力，减少了停留时间，降低了物料发热的状况。

②    多层多向剪切分散。同类设备定、转子等部件结构单一，多级多层的结构只是单纯的重复性加工，相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象。PLD2000系列定、转子结构采用多层多向剪切的概念，装配式结构使物料得到不同方向的剪切分散，杜绝短路现象，超细分散更加*。