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IKN研磨分散机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。
硬脂酸镉为白色细微粉末，不溶于水，溶于热乙醇、苯和*，在有机溶剂中加热溶解而冷却后成为胶状物，遇强酸分解成硬脂酸和相应的盐，有吸湿性。高毒，对呼吸道有刺激作用并可引起肺水肿；可破坏人体骨骼，引起骨质松软，周身骨骼疼痛等。用作聚氯乙烯等塑料的耐光透明稳定剂、高级橡胶制品和薄膜的光滑剂和透明软化剂。
硬脂酸镉研磨粉碎机
因为好多物料单用一种胶体磨或分散机是无法达到客户所要求的理想粒径要求已经分散效果要求。IKN客户在IKN实验室实验室做完实验后经常会遇到这样的痛苦，物料已经用N多种国产研磨设备处理过了，达不到效果，zui后放下国产设备的价格优势找到中德合作的IKN，虽然IKN研磨分散设备制造精密，但也不是*的，有些物料例如硬脂酸镉还有茶叶鲜叶还是不能处理到客户理想要求（硬脂酸镉处理到2-3μm，茶叶鲜叶处理到200目），在客户要求IKN重新做处理方案时，IKN研发工程师协同客户一起研发出了研磨分散机，IKN公司总为研磨分散机定型号为CMD2000系列。研磨分散机的研制，成功解决了原有设备粒径处理不理想的问题。
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抹茶粉研磨分散机总体上来说其实是将胶体磨跟分散乳化机合二为一，在一台设备上完成了两台设备联合运行才能达到的效果。IKN抹茶粉研磨分散机开机转速跟IKN胶体磨已经IKN三级高剪切乳化机一样，都可以达到9000rpm，经变频后转速亦可升至14000rpm。
CMD2000模块主要由两层分散头构成，工作时，物料通过投料口进入分散腔，首先到达层分散头进行处理，由于马达带动转子齿列高速运转，产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头，然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用，之后在转子齿列与定子齿列的强力剪切间隙中物料被强烈撕裂后从定子齿列缝隙中流出时完成第二次剪切，接着流出的物料进入第二层分散头腔体，对处理过的物料再次进行剪切（原理同上），从而确保混合分散获得很窄的粒径分布，获得更小的液滴和颗粒，生成的混合液稳定性更好，满足疫苗生产对于粒径的要求。
CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
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