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DAS-7000 多功能动态吸附仪

参考价
面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号DAS-7000
  • 品牌
  • 所在地长沙市
  • 更新时间2017-12-08
  • 厂商性质生产厂家
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量8
  • 人气值550
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    华思仪器有限公司是一家集仪器研发、生产和销售为一体的创新性科技企业,团队人员均来自北京大学。产品研发与营销中心设在北京大学科技园,制造工厂位于湖南省长沙市*园区内。本公司拥有多名在科学研究和仪器制造方面经验丰富的研发人员,其中高级工程师2人,博士及博士后3人,3人具有国外留学经历。

    本公司在仪器制造工艺上精益求精,并取得原创性成果十余项。

    本公司充分发挥团队创新精神和深厚研发实力,现已形成了固定床反应装置、吸附仪、真空装置和原位反应装置等四大类产品。具体有固定床反应装置、光热固定床反应装置、流化床反应器、浆态床反应器、动态吸附仪、低温动态吸附仪、动态吸附分析仪、静态吸附仪、气相色谱、真空旋转涂抹装置、真空沉积装置、低温液体循环设备、高温炉、真空透射原位红外检测装置和可快速升降温反应釜等产品。产品现已被北京大学、清华大学、南开大学、浙江大学、中科院大连化学物理研究所、兰州化学物理研究所等多个高校和研究院采用,并得到用户的*肯定和赞许。

    “与远见者同行”是本公司秉持的理念,公司所有员工真诚期待您的光临与合作,我们将从设备配置方案、安装调试到售后维护,*地向客户提供Z贴心、*质的服务。我们不仅提供定型化的产品,还可根据客户对装置的工艺流程、自控程度以及硬件配置等方面的*要求,提供量身定做的个性化产品,为客户创新的科研工作提供可靠实用的仪器设备。

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产地国产 加工定制 显示方式数字式
仪器种类其他
DAS-7000多功能动态吸附仪是一款高品质高性能的自动化动态吸附仪,是催化研究中一类常规分析仪器,主要可用于化学吸附的测量,操作方式有程序升温(氧化还原性能、表面酸碱性、表面物种结构和吸附能力)和化学滴定(吸附量、单点化学表面积、多点化学表面积、分散度和颗粒度等)。
该装置采用面板和软件共同操作的方式,面板上流路直观清晰,这有利于实现对仪器阀门和管路的操作和控制,而对
多功能动态吸附仪 产品详情

技术指标:

1. 温度:0~1200 oC;
2. 温度曲线:线性度>99.999%,重复性误差<1 oC;
3. 程序升温速率:0.5~90 oC/min;
4. 催化剂装样体积:0~1 ml;
5. 流量计控制精度:±1%。

特点:

1. 适用于块状和颗粒状样品;
2. 仪器内部在线配气,也可直接使用瓶配气;
3. 采用面板和软件共同操作的方式,面板简单,流路直观清晰,可实现对仪器阀门和管路的操作和控制;而在电路部分上,可实现面板和软件间的相互切换;
4. 仪器尾气出口可与色谱、质谱等分析仪器联用;
5. 小型化结构。

        DAS-7000多功能动态吸附仪是一款高品质高性能的自动化动态吸附仪,是催化研究中一类常规分析仪器,主要可用于化学吸附的测量,操作方式有程序升温(氧化还原性能、表面酸碱性、表面物种结构和吸附能力)和化学滴定(吸附量、单点化学表面积、多点化学表面积、分散度和颗粒度等)。
        该装置采用面板和软件共同操作的方式,面板上流路直观清晰,这有利于实现对仪器阀门和管路的操作和控制,而对于电路部分,可实现面板和软件间的相互切换,则有利于对仪器和数据的保护;该装置配有特定的测控和数据分析软件,完成测定结果的自动化生成,与此同时可对已测定结果进行数据后处理。该吸附仪配备自主研发的高灵敏性检测器,死体积小,灵敏度高,升温过程中基线平稳。除此之外,该装置简便的结构形式方便其与其他分析仪器耦合使用,例如色谱、质谱等。总的来说,相比于国内外同类产品,该装置具有更高的精度、死体积小、重复性好、操作简便等优势。

H2-TPR谱图

测试条件:取0.1g 活性碳负载催化剂在He气氛150 oC下处理1 h后降至室温,切换为5%H2/N2,待基线平稳后程序升温至600 oC,桥流120 mA H2/N2混气流量30 ml/min

不同焙烧温度处理的CuO基催化剂的CO2-TPD谱图

NH3-TPD谱图

测试条件:取0.1g ZSM-5负载催化剂在He气氛550 oC下处理30 min,后降温至100 oC,转为NH3吸附1 h后再通入He进行吹扫,待基线平稳后程序升温至900 oC,桥流120 mA,载气He流量40 ml/min

  

ZSM-5负载催化剂的NH3-TPD谱图

CO2-TPD谱图

测试条件:取0.1g不同焙烧温度处理的CuO基催化剂在He气氛150 oC下处理1 h,后降温至40 oC,转为CO2吸附1 h后再通入He进行吹扫,待基线平稳后程序升温至800 oC,桥流120 mA,载气He流量40 ml/min

不同焙烧温度处理的CuO基催化剂的CO2-TPD谱图

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