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GM2000/4 SGN/思峻 安达*混悬剂胶体磨设备 分散机

参考价订货量

90000

≥1台

具体成交价以合同协议为准
  • 型号GM2000/4
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海
  • 更新时间2024-01-31
  • 厂商性质生产厂家
  • 所在地区上海
  • 实名认证已认证
  • 产品数量200
  • 人气值1478
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上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN*工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的*技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等,培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才!在德国SGN工业设备的基础上,思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。

 

 公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备,为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才,能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。

 

公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队,我们将致力于为客户提供整套的售后服务,在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。

 

“业精于专”是思峻公司的宗旨,专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺,我们坚信专注打造精品,专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰!

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产地国产 加工定制 适用领域化工
SGN/思峻 安达*混悬剂胶体磨设备 分散机设备具有设计紧凑、实用新型,外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精Υ细物料的加工设备。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。
SGN/思峻 安达*混悬剂胶体磨设备 分散机 产品详情

SGN/思峻 安达*混悬剂胶体磨设备 分散机

安达*混悬剂胶体磨,混悬剂胶体磨,口服混悬剂胶体磨,外用混悬剂胶体磨,注射混悬剂胶体磨,*混悬剂胶体磨,*混悬剂胶体磨,*混悬剂胶体磨,医药混悬剂高速胶体磨,管线式高剪切胶体磨,德国进口胶体磨,不锈钢高速胶体磨

SGN胶体磨具有设计紧凑、实用新型,外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精Υ细物料的加工设备。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。


安达*混悬液主要成份为*,其化学名称为:十四羟基碳酸铝镁水合物。用于治疗胃及十二指肠溃疡或胃酸过多引起的反酸、烧心、疼痛、腹胀、嗳气等症状。


混悬剂中的微粒大小是不均匀的,大的微粒总是迅速沉降,细小微粒沉降速度很慢,细小微粒由于布朗运动,可长时间悬浮在介质中,使混悬剂长时间地保持混悬状态。制备混悬剂时,应使混悬微粒有适当的分散度,粒度均匀,以减小微粒的沉降速度,使混悬剂处于稳定状态。传统的混悬剂生产都是采用普通胶体磨,转速只有3000rpm,生产出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,为此有医药厂家在考察了国内的设备之后,放弃了具有极度价格优势的国内设备,来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好)混悬剂胶体磨CM2000三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。

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胶体磨介绍:

SGN/思峻 安达*混悬剂胶体磨设备具有设计紧凑实用新型外形美观密封良好性能稳定操作方便装修简单经久耐用适应范围广生产效益高等特点、是处理精Υ细物料的加工设备。

是对流体物料进行精细加工的机械。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。

胶体磨应用:
该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。


胶体磨内部结构及分析:
粉碎室设有三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三层为超微磨碎区,通过调整定、转子的间隙,能有效地达到所需的超微粉碎效果(也可循环加工)。

混合区:首先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合,在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺;

剪切区:物料进入剪切区后,由于上道工序只把物料进行混合,没有把物料进行大颗粒破碎,这个问题由高剪切机来完成,该剪切区由三层数百条刀槽组成,将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。

研磨区:研磨区是由凹凸胶体磨组成,转定子切有许多中齿及细齿组成,将已剪切的小颗粒进行深化研磨,研磨时可调距离为0.01~3mm

1、 有较强的混合、粉碎、研磨、输送功能;

2、 可使用较硬的各类易碎颗粒;

3、 可同过调节定转子间隙进而调节循环研磨所需时间;

4、 定、转子间歇可以调节,调节距离为0.01~3mm,可降低启动负荷,从而减少能耗

5、 转、定子材料可选用2cr13 9cr18  2205进行氮化处理货渗碳化钨处理。


胶体磨在设计上的突出优点在于:

1、转速14000rpm,相较其它厂家2900转左右高出约三倍:

2、磨头结构更精密并有*设计,使之研磨作用力更大,效果更好。

3、德国进口双端面机械密封拥有*结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

4、GM2000/4中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到更低。


胶体磨的基本原理:
胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸 入剪切粉碎区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物 料重新压入精磨区进行研磨破碎,精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一 级流体的方向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之 后,从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的zui小细度可达0.5um。


胶体磨的研磨细度和产量可以调节,物料在胶体磨中的研磨指数与下列因素有关:
1.物料的成熟度。成熟度高的,易于研磨。
2.胶体磨磨头轴的转速即线速度,转速快,则物料的研磨时间短。
3.物料直径。直径大的,打碎的程度差。
4.有效面积系数。系数大,物料研磨时间亦短。
5.导呈角大小。导呈角大的,物料在胶体磨中停留的时间亦短。

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