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上海依肯公司的研磨分散设备(CMSD)目前已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、鳞片石墨、蠕虫石墨、活性炭等碳材料中,在锂电池、光伏材料、光催化材料、医药等多重领域上应用显zhu,客户遍布全国各省市,客户群体包括各大药企、科研机构、新兴企业、民营企业、国营及事业单位,更有包括帝斯曼、泰莱、奇华顿等多跨国企业。详询上海依肯 林万翠
上海依肯CMSD2000系列研磨分散机,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题,其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料等多种新材料的制备应用上。CMSD2000系列的胶体磨(锥体磨)分散头的组合,可以先将物料(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。
.CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高精细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠
IKN研磨分散机综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达0.02~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的xian进水平。
CMSD2000系列高剪切石墨烯湿法研磨机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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