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CMSD 高剪切石墨烯湿法研磨机 分散机

参考价
面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号CMSD
  • 品牌IKN/依肯
  • 所在地上海市
  • 更新时间2022-10-10
  • 厂商性质生产厂家
  • 所在地区上海市
  • 实名认证已认证
  • 产品数量84
  • 人气值1641
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上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与quan球的混合乳化技术同步,同时拥有yi流的技术研究人才和生产能力,为zhong国及quan球提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为zhong国流体高剪切混合设备行业的者。

       公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机,二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为guo内的供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为guo家zhong点工程配套,部分产品返销国外,取得了显zhu的经济效益和社会效益。

 

      “追求高品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。

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产地进口 加工定制 适用领域科研
上海依肯公司的研磨分散设备(CMSD)目前已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、鳞片石墨、蠕虫石墨、活性炭等碳材料中,在锂电池、光伏材料、光催化材料、医药等多重领域上应用显著,客户遍布全国各省市,客户群体包括各大药企、科研机构、新兴企业、民营企业、国营及事业单位,更有包括帝斯曼、泰莱、奇华顿等多跨国企业。详询上海依肯 林万翠 高剪切石墨烯湿法研磨机
高剪切石墨烯湿法研磨机 分散机 产品详情

高剪切石墨烯湿法研磨机,液相剥离单层石墨设备,机械法制备石墨烯设备,小型研发研磨分散机,立式高剪切研磨分散机,流体浆料高效胶体磨,中试型高速研磨分散机,循环式降温研磨设备,耐有机溶剂研磨分散机,防腐蚀高速研磨分散机

上海依肯公司的研磨分散设备(CMSD)目前已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、鳞片石墨、蠕虫石墨、活性炭等碳材料中,在锂电池、光伏材料、光催化材料、医药等多重领域上应用显zhu,客户遍布全国各省市,客户群体包括各大药企、科研机构、新兴企业、民营企业、国营及事业单位,更有包括帝斯曼、泰莱、奇华顿等多跨国企业。详询上海依肯 林万翠

上海依肯CMSD2000系列研磨分散机,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题,其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料等多种新材料的制备应用上。CMSD2000系列的胶体磨(锥体磨)分散头的组合,可以先将物料(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。

 

.CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高精细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠

IKN研磨分散机综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达0.02~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的xian进水平。

CMSD2000系列高剪切石墨烯湿法研磨机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150

 

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

 

,液相剥离单层石墨设备,机械法制备石墨烯设备,小型研发研磨分散机,立式高剪切研磨分散机,流体浆料高效胶体磨,中试型高速研磨分散机,循环式降温研磨设备,耐有机溶剂研磨分散机,防腐蚀高速研磨分散机

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