ALLIED 自动研磨系统MultiPrep™系统适用于高精微(光镜,SEM,TEM,AFM等)样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光、精确角抛光、定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性,可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品,保证只有样品面与研磨剂接触.
ALLIED 自动研磨系统双测微计(倾斜度和摆动度)允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整;精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。
数字指示器可以量化材料去除率,可以实时监测或进行预先设定的无人操作;可变速的旋转和振荡,能够zui大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制品;可调负荷控制,扩大了其从小样品(易碎样品)到大样品的*处理能力。
常见的应用包括并联电路层级,横截面,楔角抛光等。
特点:
- 前数字指示器显示实时的材料去除率(样品的行程),1微米分辨率
- 精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转。
- 双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),+10°/-2.5°幅度, 0.01° 增量。
- 后置的数字指示器显示垂直位置(静态),具有归零功能,1微米分辨率
- 6倍速样品自动摆动。
- 齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩,如较大或封装的样品。
- 凸轮锁紧钳无需其他辅助工具,方便用户重新设置工作夹具。
- 8倍速样品自动旋转。
- 样品调整范围:0-600克(100克增量)
- 研磨盘速度范围:5-350 RPM(5转速增量)
- 触摸面板控制所有功能。
- ¼ HP(190瓦)耐用的减速箱电机提供高转矩
- 数字计时器和转速表
- 顺时针/逆时针研磨盘旋转
- 易清洁,避免碎片堆积
- 调节阀控制电子冷却液