等离子体去钻污凹蚀的原理
当前去钻污方法很多，分干法和湿法两种，干法处理是在真空环境下通过等离子除去孔壁内钻污。此法需要专门的等离子体处理设备，处理成本高，一直在处理挠性多层板、刚挠结合多层板、聚酰亚胺多层板和微小孔径的刚性多层板时使用。
等离子体去钻污凹蚀的原理
当前去钻污方法很多，分干法和湿法两种，干法处理是在真空环境下通过等离子除去孔壁内钻污。此法需要专门的等离子体处理设备，处理成本高，一直在处理挠性多层板、刚挠结合多层板、聚酰亚胺多层板和微小孔径的刚性多层板时使用。湿法处理包括浓硫酸、弄酪酸、*和PI调整处理，酪酸除钻污由于存在严重的环境污染问题，现在基本无人采用了。常用的处理方法有浓硫酸、碱性*处理，PI调整处理法正在研究中，并已取得了很好的效果。浓硫酸法和碱性*法用来处理刚性板，PI调整法用来处理挠性板。下面是介绍用等离子体在真空环境下通过等离子体去除孔壁内钻污的原理。
等离子体去钻污凹蚀的原理
等离子体去钻污凹蚀是国外20世纪80年代才开始采用的技术。等离子体是电离的气体，整体上显电中性，是一种带电粒子组成的电离状态，称为物质第四态。应用等离子去除刚挠板及挠性板孔壁的钻污可看作是高度活化状态的等离子气体与孔壁高分子材料和玻璃纤维发生气固化学反应，同时生成的气体产物和部分未发生反应的粒子被抽气泵排出，是一个动态的化学反应平衡过程，等离子体气体的生成条件为：①将一容器抽成真空（0.2-0.5Torr），并保持一定的真空度；②向真空容器中通入所选气体，必须保持一定的真空度；③开启射频电源向真空器内正负电极间施加高频高压电厂，气体即在正负极间电离，放出辉光，形成等离子体，此时气体不断输出，真空泵一直工作以使真空器内保持一定真空器。由于等离子体处理需要设备以及电子级气体，因此采用等离子体去钻污凹蚀比较昂贵。
