高分子材料均质机 高分子均质机 高分子材料分散机
太仓中新宝智能装备有限公司
（洽谈：1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0）
一、高分子定义
高分子材料：以高分子化合物为基础的材料。高分子材料是由相对分子质量较高的化合物构成的材料，包括橡胶、塑料、纤维、涂料、胶粘剂和高分子基复合材料，高分子是生命存在的形式。所有的生命体都可以看作是高分子的集合。
二、特征
一是分子量大(一般在10000以上)，二是分子量分布具有多分散性。即高分子化合物与小分子不同，它在聚合过程后变成了不同分子量大小的许多高聚物的混合物。我们所说的某一高分子的分子量其实都是它的一种平均的分子量，当然计算平均分子量也以不同的权重方式分为了数均分子量、粘均分子量、重均分子量等。而小分子的分子量固定，都由确定分子量大小的分子组成。这是高聚物与小分子一个特征区别。
三、高分子设备原理
ZKE/中新宝研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备，先研磨后分散机。ZKE/中新宝研磨分散机二级工作组，转速高达18000rpm，剪切力强，分散更*。
KZSD2000系列研磨分散设备是ZKE公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
KZSD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。初级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
*的定转子结构，产生*的剪切力，可在真空或压力工况下迅速减小液滴尺寸，使乳化更稳定，分散更均匀。提供从小试 - 中试 - 大生产全系列产品，可以满足不同的安装条件和非标要求。
高剪切分散乳化就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续相中，而在通常情况下各个相是互不相溶的。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频的循环往复，终得到稳定的高品质产品。
我公司为*乳化机，均质机，分散机，研磨机，胶体磨
服务于制药、化妆品、生物、食品等行业机械设备。
主要产品：真空乳化搅拌机组、栓剂真空乳化搅拌机组
全自动软膏灌装封尾机、全自动软管装盒机
膏霜类成套设备流水线、配液罐、配料罐、搅拌罐
适用工艺
适用于真空或压力工况下对物料的分散、乳化、均质、混合等工艺。
设 备 选 型 表
型号 | 标准流量L/H | 输出转速Rpm | 标准线速度m/s | 马达功率KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
KZSD2000/4 | 300-1，000 | 18，000 | 51 | 4 | DN25 | DN15 |
KZSD2000/5 | 1，000-1,500 | 13，500 | 51 | 11 | DN40 | DN32 |
KZSD2000/10 | 3，000 | 9，300 | 51 | 22 | DN50 | DN50 |
KZSD2000/20 | 8，000 | 3，600 | 51 | 37 | DN80 | DN65 |
KZSD2000/30 | 20，000 | 3，600 | 51 | 75 | DN150 | DN125 |
KZSD2000/50 | 40，000 | 2，500 | 51 | 160 | DN200 | DN150 |
注
* 表中上限处理量是指介质为“水”时测定的数据；
* 如介质粘度或固含量较高，建议与管线式高剪切分散乳化机配合使用；
* 如有高温、高压、易燃易爆、腐蚀等特殊工况时，须提供详细准确的参数；
* 本表数据如有更改，恕不另行通知，正确参数以提供的实物为准。
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