简单介绍:
可程控磁控溅射镀膜仪为单腔室结构,主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等组成。
详情介绍:
可程控磁控溅射镀膜仪由工控机和PLC实现控制,有自动和手动控制两种模式。除取放样品外,其它操作过程全部在触摸屏上实现;提供真空系统、溅射工艺设置、充放气系统等人机操作界面;在工控机上可通过配方设置参数,实现对程序工艺过程和设备参数的设置。
设备用途:
该产品可广泛应用于半导体、LED和光伏等行业,主要用于各种金属、半导体及介质材料的薄膜制备,可满足科研兼小批量生产需要。
技术参数:
溅射室极限真空 | ≤8.0×10-6Pa | |
恢复真空时间 | 系统从大气抽至1.0×10-3 Pa≤15min | |
均匀性 | 膜厚不均匀性≤±5%;片间不均匀性≤±5%;批次间不均匀性≤±5% | |
溅射真空室 | 圆筒形结构,尺寸Ф800mm×250mm | |
磁控溅射系统 | 永磁靶4支,靶材尺寸6英寸; 配1台进口电源(射频或直流脉冲可选); 溅射速率:0.5~5埃/秒(靶材Al) | |
公转基片台 | 6英寸6片,(4英寸12片或3英寸16片); 基片公转3~15转/分,连续可调,可选配公自转复合工件台 | |
光加热系统 | 样品加热温度:室温~250℃,连续可调; 基片温度不均匀性:≤±10℃; 控温方式为PID自动控温及数字显示,配备进口控温表 | |
工作气路 | 2路质量流量控制器气路 | |
抽气机组成 | 低温泵(进口)、罗茨干泵机组、气动闸板阀(进口)、管路等 | |
真空测量 | 2个真空计(进口)对系统真空、工作真空及前级真空进行**检测;真空度在工控机触膜屏上可直观显示;可准确监控溅射镀膜工艺过程的真空度 | |
控制系统 | 系统由工控机(触摸屏)和进口PLC实现对整个系统的控制 | |
占地面积 | 主机 | 1500×1000mm2 |
电控柜 | 700×700mm2(一个) |