HTBL底载式炉
气氛环境轻微过压，分压压力在10到1000mbar之间，由气体流量决定。不可使用空气（氧气）。气路系统由各种进气和控制装置组成，由真空泵进行真空操作，各个独立温度控制装置实现高温度均匀性。
规格型号：
设备说明：HTBL底载式炉
HTBL底载式炉为石墨或金属加热炉
石墨炉有2200°C和3000°C两种可选。石墨炉有50，80或者200l的不同容积，金属炉只有60l。HTBL 60 MO/16-1G加热温度1600°C，配有钼制隔热板和加热元件。金属炉特别适合应用非常纯净或者高真空的气氛。HTBl也非常方便装/卸样品，炉膛可以下降并露出,以方便样品任意方向放入炉内而无任何限制。另外样品热电偶可以放置于位置，也可以订购气氛盒。底座的移动是*自动控制的，液动动力驱动，当炉膛移动到低位置时，可以把炉膛手动外推90°C。氮气，氩气和氢气可以单独或者混用，也可以使用其他气体。气氛环境轻微过压，分压压力在10到1000mbar之间，由气体流量决定。不可使用空气（氧气）。气路系统由各种进气和控制装置组成，由真空泵进行真空操作，各个独立温度控制装置实现高温度均匀性。
加硬，退火，回火，淬火，焊接，钎焊，排气，热解，硅化，碳化，快速预成型，烧结，分解，合成，升华，干燥，金属注射成型（MIM），陶瓷注射成型（CIM）
产品优势
※金属炉可提供纯度的气氛环境（6N或更高）
※石墨炉加热温度可达3000°C
※可提供氢分压操作
※粉末样品抽真空操作平稳可控
※全自动操作
※质量控制用数据记录
典型应用
加硬，退火，回火，淬火，焊接，钎焊，排气，热解，硅化，碳化，快速预成型，烧结，分解，合成，升华，干燥，金属注射成型（MIM），陶瓷注射成型（CIM）
技术细节
底载式石墨炉加热元件为石墨，炉壁上加热器由软件控制，有过温保护装置。加热棒沿着圆柱形的炉壁排列直到顶部。保温材料是石墨纤维，外面包有水冷隔热层。载/取样必须手动解开保险。
真空工作管需要手动放置/取出。炉膛的上下移动是全自动的，等到移动到低位，底座可以往外移出90°。HTBL可以支持量产应用，石墨炉配有红外测温仪和可移动热电偶。高温石墨炉的结构可以根据客户要求定制，气氛盒也可以定制。请注意如果样品不能接触碳元素，那只能选择金属炉。HTBL金属炉的炉壁也是由钨或者钼构成，防辐射隔热板也是和加热元
件一样的材质，一共有9层。如果加热温度不太高，那么隔热板会适当减少。HTBL的直径为400mm，加热区高度500mm，非常适合高真空环境操作。钼和钨制炉都能经受高温高真空的考验，在高温下加热元件都会变得很脆弱，使用需要小心。HTBL系列配有软件全自动控制和数据记录，预设步骤的相关信息都会后续记录和处理，特别适合工业化大规模生产的要求。
选配件
包括定制真空泵系统，操作软件，多种气体进气接口，反应性和惰性气体气路，水冷系统（当现场没有足够水源供应时）。HTBL配有自动软件操作系统，也可以定制附加加热区。
真空泵系统：
HTBL系列配有初级真空泵做低度真空度操作，可配合转子泵做高真空操作。更高真空度要求配备涡轮分子泵或油扩散泵。HTBL 200GR/22-1G *配油扩散泵，抽真空速度非常快。通常大容积的炉子都会*用油扩散泵。下列为涡轮分子泵和油扩散泵的通常使用条件：
※涡轮分子泵 泵速 1200或1500l/s
※油扩散泵 泵速 8000m3/ h
水冷系统：
如果现场没有水冷装置，也可以订购安装。冷却功率根据需要或者炉子的功率设计。
水冷系统：水冷机
反应性气体装置：
如果混合气体中氢气的比例超过4%，必须配备安全燃烧装置。出气管路也需要加热以避免可能的沉积。可提供多种惰性气体连接炉子。为了保护加热元件或者提供气体更好的导向性，还可以订购气氛盒。
※反应性气体设备
※多种惰性气体气路
※气氛盒
