一、产品关键词
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二、碳纳米管的简介
碳纳米管，是在1991年1月由日本筑波NEC实验室的物理学家饭岛澄男使用高分辨透射电子显微镜从电弧法生产的碳纤维中发现的。它是一种管状的碳分子，管上每个碳原子采取sp2杂化，相互之间以碳-碳σ键结合起来，形成由六边形组成的蜂窝状结构作为碳纳米管的骨架。每个碳原子上未参与杂化的一对p电子相互之间形成跨越整个碳纳米管的共轭π电子云。按照管子的层数不同，分为单壁碳纳米管和多壁碳纳米管。管子的半径方向非常细，只有纳米尺度，几万根碳纳米管并起来也只有一根头发丝宽，碳纳米管的名称也因此而来。而在轴向则可长达数十到数百微米。
碳纳米管不总是笔直的，局部可能出现凹凸的现象，这是由于在六边形结构中混杂了五边形和七边形。出现五边形的地方，由于张力的关系导致碳纳米管向外凸出。如果五边形恰好出现在碳纳米管的顶端，就形成碳纳米管的封口。出现七边形的地方碳纳米管则向内凹进。
三、碳纳米管溶液应用于：
①超级电容器
② 催化剂载体
③储氢材料等等
四、碳纳米管溶液分散的难点是:
碳纳米管除具有一般纳米粒子的尺寸效应外，还具有力学强度大、柔韧性好、电导率高等*的性质，成为聚合物复合材料理想的增强体，在化工、机械、电子、航空、航天等领域具有广泛的应用。但由于碳纳米管易聚集成束或缠绕，而且与其他纳米粒子相比，其表面是相对“惰性”的，在常见的有机溶剂或聚合物材料中的分散度低，这极大地制约了其广泛应用。因此，对碳纳米管的表面进行改性已成为聚合物 /碳纳米管复合材料的研究热点之一。目前，国内外对碳纳米管表面改性的研究主要是在其表面引入共价键和非共价键基团，例如采用表面化学反应改性、表面活性剂改性等，或采用聚合物分子对碳纳米管进行包覆改性等方法.近年来。还提出了紫外线照射、 等离子射线改性等处理方法。 表面改性的碳纳米管用于聚合物复合材料可以显著改善材料的力学性能、 电性能和热性能等。
五、GMD2000系列研磨分散机是由胶体磨、分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
六、GMD2000系列研磨分散机的特点：
1、碳纳米管溶液分散机采用上海SGN技术，*创意，融化理念。将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来GM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”。
2、研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通分散机很难做到连续长时间的运行，并且普通分散机不能承受高转速的运行。通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力。
3、研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。一级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
七、GMD2000系列研磨分散机的设备选型表
| 型号 | 流量L/H | 转速rpm | 线速度m/s | 功率kw | 入/出口连接DN |
| GMSD2000/4 | 300 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
| GMSD2000/5 | 1000 | 14000 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
| GMSD2000/10 | 2000 | 9200 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
| GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
| GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
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