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  • 霍尔离子源典型应用 IBE 离子刻蚀 镀膜机

霍尔离子源典型应用 IBE 离子刻蚀 镀膜机

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具体成交价以合同协议为准
  • 型号
  • 品牌
  • 所在地上海市
  • 更新时间2022-10-06
  • 厂商性质代理商
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量200
  • 人气值3092
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位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业(上海)有限公司创建于1995年12月,, 是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业,公司注册资金为200万美元,到目前为止公司从业员工有400多人。
伯东企业(上海)有限公司真空产品事业部()专业销售及维修德国Pfeiffer单双级旋片泵,干泵,罗茨泵,分子泵;应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);检漏仪,质谱仪,真空系统等等, 维修技术力量雄厚,保证 100 % 拥有标准的德国Pfeiffer原厂测试设备及调整工具和德国Pfeiffer专业培训工程师,多年来致力于真空系统的安装、调试、维修、拆机、保养等,具有优良的专业技能和服务意识,并获得原厂*维修资质证书。利用 Pfeiffer 进口检测设备对维修后的产品做*性能测试。另外公司还代理美国Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低温泵, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源,HVA 高真空阀门。公司一直坚持品质*、信誉*的原则,为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、ISO9001-2000质量体系认证、ISO14001-1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本,不断开拓进取的精神,为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。

为将国外的高科技产品与中国经济和社会的飞速发展紧密结合,为促进国内.贸易的快速发展,伯东企业(上海)有限公司,以高科技推动现代化,以高质量服务全中国, 坚持不懈,奋斗不息。伯东公司是一家专业代理公司,代理上公司的 半导体设备.接插件.电子器件.精密仪器等,公司秉承 改革.创新.求真.发展的基本原则, 精心构建诚信、互动、共赢的价值体系, 为所有的客户提供优质的产品, 同时,提供全伯东集团网络支持下的较早.Z快的信息与Z及时周到的服务,伯东公司愿意与世界各地的客户联手合作,共建一个诚信.发展.共同进步的良好环境.

 

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产地进口 加工定制 适用领域其他
上海伯东离子源典型应用: 安装在小型离子蚀刻机中的 KRI 霍尔离子源 EH 400 HC, 对 2英寸硅芯片蚀刻,霍尔离子源典型应用 IBE 离子刻蚀
霍尔离子源典型应用 IBE 离子刻蚀 镀膜机 产品详情

离子源应用于离子刻蚀 IBE
上海伯东代理美国考夫曼 KRI 离子源, 其产品霍尔离子源 EH400 HC 成功应用于离子蚀刻 IBE.
霍尔离子源离子抨击能量强, 蚀刻效率快, 可因应多种基材特性, 霍尔源单次使用*, 耗材成本极低, 操作简易, 安装简易, 因此美国考夫曼霍尔离子源广泛应用于蚀刻制程及基板前处理制程.

霍尔离子源客户案例一: 某大学天文学系小尺寸刻蚀设备
系统功能: 对于 Fe, Se, Te ,PCCO 及多项材料刻蚀工艺.
样品尺寸: 2英寸硅芯片.
刻蚀设备: 小型刻蚀设备. 选用上海伯东美国考夫曼品牌霍尔离子源 EH400 HC
上海伯东离子源 EH400HC
霍尔离子源 EH400HC 安装于刻蚀腔体内
上海伯东美国考夫曼离子源
离子源 EH400HC 自动控制单元
上海伯东美国考夫曼离子源控制器
霍尔离子源 EH400HC 通氩气
离子源通氩气
对于 FeSeTe 刻蚀应用, 霍尔离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 >20 A/Sec
上海伯东考夫曼离子源蚀刻速率
对于 FeSeTe 刻蚀应用, 霍尔离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 >17 Å/Sec
上海伯东美国离子源蚀刻速率

鉴于信息保密. 更详细的离子源应用欢迎

霍尔离子源 EH400HC 特性:
高离子浓度, 低离子能量
离子束涵盖面积广
镀膜均匀性佳
提高镀膜品质
模块化设计, 保养快速方便
增加光学膜后折射率 (Optical index)      
全自动控制设计, 操作简易
低耗材成本, 安装简易

 


若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶小姐,分机109

 

关键词:控制单元
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