本站客户服务
仪表网官微
仪表APP
仪表手机版
仪表小程序
1.标配参数：单枪、 离子源、 晶控、23公分的射频源、 热阻蒸、 顶部侧部加热、 两个扩散泵、一个螺丝泵、一个机械泵
2.用途：此真空镀膜机是镀制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AF+AS膜）型光学镀膜机，应用于镀膜机等所配的触摸屏。真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。转让二手日本2350光弛镀膜机
本装置是为减反射光学薄膜的大批量生产而设计制作的光学镀膜机。
采用了磁流体密封技术的中心旋转式基板架，保证了薄膜产品的重复性与均匀性
优化的排气特性和升温能力使镀膜时间缩短
可以加装用于对应高精度AR镀膜的多层膜用可靠的光控仪 (optional)
产品介绍
Gener-1800
· 反应性等离子源镀膜机
· SDAR 系列
· 器件
· 离子源
· 光学膜厚监控仪
本装置是为减反射光学薄膜的大批量生产而设计制作的光学镀膜机。
采用了磁流体密封技术的中心旋转式基板架，保证了薄膜产品的重复性与均匀性
优化的排气特性和升温能力使镀膜时间缩短
可以加装用于对应高精度AR镀膜的多层膜用可靠的光控仪 (optional)
规格
真空室 SUS304,Ф1800mm×2000mm(H)
基板架 4片式工作架（或Ф1200 mm）
基板架转速 30rpm(可调)
晶振式膜厚计 XTC/3+6点式水晶传感器
蒸发源 电子枪1台
性能
极限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
抽气速度 10分（大气压～3.0×10-3Pa）
基板加热温度 350℃
安装要求
安装空间 约4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
电力 3相，200V，50/60Hz，约80KVA
水流量 100升/分以上
压缩空气压力 0.5-0.7MPa
重量 约5000kg
日本光驰OTFC-1300镀膜机：主要用于量产高精度的带通滤光片产品，包括生物医疗、荧光检测及天文观测用的滤光片，可以使产品的光学性能及稳定性进一步得到保障，满足生物疗领域荧光滤光片对于高对比度、高信噪比、暗黑背景的要求。
OTFC-1300镀膜机的基本配置是：搭载了10KV双电子枪，750W的RF射频离子源，光学膜厚监控装置（Optorun制，HOM2-R-VIS350A），低温冷凝器（Polycold），油旋转机械泵 （Edwards E2M275）罗茨机械泵（Edwards EH1200）；多点和环型坩埚可镀200层以上，膜厚可达20000nm之多。这就意味着单片镀膜就可以达到截止深度OD5以上，不用再为了达到高OD值而再做两片胶合了。从而大大提升了滤光片的成像质量以及产品合格率。
下面介绍其中两个特点：
1.光学膜厚测量控制：
OTFC-1300镀膜机是利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程，这就使生产效率得以显著提高。光学膜厚监控技术已经成为当今光学薄膜成膜自动化的核心技术。可以对薄膜的厚度进行无损的、实时的测量，并在达到所需厚度时能及时给出控制信号。这就意味着镀膜更精准，公差更小，可以做到±0.1nm。
2. RF射频离子源：
（1）加工精度高，便于控制。离子束可以通过离子光学系统进行聚焦扫描，可以控制尺寸范围。高离子电流密度和均匀分布，照射面积能达到Ф1150mm以上。
（2）同使用灯丝型的离子源比较，它的寿命长，污染少。
（3）加工应力、变形极小。离子束加工工艺是一种原子级或分子级的微细加工，作为一种微观作用，其宏观压力很小，适合于各种材料和低刚度工件的加工，而且加工表面质量高。
（4） 动作安定性高，能长时间运转。
3.镀膜机明细参数：
真空室SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)基板架4片式工作架（或Ф1200 mm）基板架转速30rpm(可调)晶振式膜厚计XTC/3+6点式水晶传感器蒸发源电子枪1台性能极限真空7.0×10-5Pa以下抽气速度10分（大气压～3.0×10-3Pa）基板加热温度350℃安装要求安装空间约4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)电力3相，200V，50/60Hz，约80KVA水流量100升/分以上压缩空气压力0.5-0.7MPa重量约5000kg
转让二手日本2350光弛镀膜机
转让二手日本2350光弛镀膜机
