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网格取样激光氨逃逸在线分析系统(NH3)

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  • 更新时间2021-08-13
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~北京大方科技有限责任公司是由留学归国人员创办的集研发、生产、销售和服务为一体的*,是*的环境与安全分析检测仪器生产商与系统解决方案供应商。

     大方科技总部位于北京中关村科技园区,生产基地位于辽宁营口沿海产业基地。公司汇聚了毕业于美国斯坦福大学等学府的技术与管理精英,聘请美国工程院院士担任公司技术顾问。公司掌握TDLAS核心技术,拥有光学、电子、机械以及信息技术等领域专业配套、经验丰富、高水平的研发团队,自主研发的激光气体在线分析系统,拥有*自主知识产权,广泛应用于环保、电力、水泥、陶瓷、化工、冶金、焦化以及工业锅炉等领域,在海内外拥有近千套的成熟案例。

      公司先后被认定为“国家*”、“中关村*”、“海淀区创新企业”。团队*入选国家“千人计划”,为“国家特聘专家”,入选北京市“海聚工程”,为“北京市特聘专家”。公司的激光气体分析产品获得“国家重点新产品”证书,拥有多项发明和软件著作权。

       依托强大的研发和技术服务团队,大方科技以专业的水准、高标准的要求、完善的技术方案,竭诚为广大用户提供优质高效的产品和服务。

 

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网格取样激光氨逃逸在线分析系统一、项目概述脱硝喷氨过程需要准确监测氨逃逸浓度,针对大型机组脱硝反应器出口烟道较大、烟道环境复杂,对烟道监测有更高要求的用户,可采用网格取样方式监测氨逃逸
网格取样激光氨逃逸在线分析系统(NH3) 产品详情

网格取样激光氨逃逸在线分析系统


一、项目概述

      脱硝喷氨过程需要准确监测氨逃逸浓度,针对大型机组脱硝反应器出口烟道较大、烟道环境复杂,对烟道监测有更高要求的用户,可采用网格取样方式监测氨逃逸。网格取样装置安装在脱硝反应器出口烟道,经过汇流母管与电除尘入口烟道连接,通过压差带动烟气流动,烟气在母管内进行混合后进行取样测量。


二、测量原理

      系统采用可调谐半导体激光吸收光谱(TDLAS)技术进行NH3的测量,以可调谐激光器作为光源,发射出特定波长激光束,穿过待测气体,通过分析被测气体中NH3分子吸收导致的激光光强衰减,根据朗伯比尔定律,气体浓度与其吸收光强成比例关系,从而实现高灵敏快速精确监测待测气体中NH3浓度。因为激光谱宽特别窄(小于0.0001nm),且只发出待测气体吸收的特定波长,使得测量不受测量环境中其它成分的干扰,相比其它复合光源而言,具有*的测量精度。

   朗伯比尔定律:    

                   

   其中光谱吸收系数:

                       

三、测量方案

      根据脱硝氨逃逸测量点高温、高湿、高粉尘、震动等工况特点以及测量浓度低、测量精度要求高等要求,产品采用大方科技经典的抽取+多反长光程测量技术烟气通过网格采样系统取样至母管混合后进入分析单元测量分析。分析单元采用多次反射样气室,测量光程可达30米,可大大提高测量精度。 

四、系统特点

1 采用TDLAS技术,不受背景气体影响

      系统采用可调谐二极管激光吸收光谱技术进行气体的测量,由于激光谱宽特别窄(小于0.0001nm),且只发射待测气体吸收的特定波长,使测量不受测量环境中其它成分的干扰。

2 系统无漂移,避免了定期校正需要

      系统采用波长调制光谱技术,并且进行动态的补偿,实时锁住气体吸收谱线,不受温度、压力以及环境变化的影响,不存在漂移现象。

3 全程高温伴热,避免氨气吸附损失

      抽取式测量的分析方式采用全程高温伴热,确保无氨气吸附损失。

4 采用多次反射样气室,极大地提高测量精度

      系统采用多次反射测量池技术,光程可达30米,极大地提高了测量精度。

5 取样更有代表性

      根据烟道尺寸和用户需求,选择网格数量,取样更有代表性。

技术,便于维护光学器件

      大方科技*的样气室设计,包含维护窗口,可以在不影响光路的情况下,对污染的光学器件进行清洁,无需重新调节光路,让维护更加快速方便。

7 仪表自检及自恢复功能

      大方科技分析仪带有智能自检及自恢复功能,软件可以自动探测分析仪的测量异常状态,可以通过自检及自恢复,使分析仪重新恢复测量工作状态。

8 自主知识产权

      大方科技深耕TDLAS技术领域20年,针对国内应用现场监测难点进行专业和定制化开发,拥有数十项发明和软件著作权,对产品拥有*自主知识产权,产品具有高可靠性和适用性。

五、典型应用:

      大型机组、自备电厂脱硝氨逃逸监测

关键词:仪表
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