这款二极管激光器叠层列阵采用垂直堆叠半导体激光列阵巴条和主动冷却技术,可在准连续QCW模式下输出250W功率,可提供808nm,904nm激光波长。
半导体激光器叠层阵列采用主动制冷技术,使用微通道激光二极管列阵,可采用去离子水循环冷却,非常适合工业激光应用。
半导体激光器叠层阵列特点
高功率
寿命长
光束质量好
CW连续激光模式
现款现货
半导体激光器叠层阵列应用
DPSSL半导体泵浦固体激光器泵浦
光纤激光器泵浦
焊接
材料热处理
光胶固化
半导体激光器叠层阵列规格参数
半导体激光器叠层阵列采用主动制冷技术,使用微通道激光二极管列阵,可采用去离子水循环冷却,非常适合工业激光应用。
半导体激光器叠层阵列特点
高功率
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CW连续激光模式
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半导体激光器叠层阵列应用
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光纤激光器泵浦
焊接
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光胶固化
半导体激光器叠层阵列规格参数
| 型号 | HVSxx-Y -150-808(Q) | HVSxx-Y -200-808(Q) | HVSxx-Y -250-808(Q) | HVSxx-Y -200-940(Q) |
| 中心波长 | 808 ±3nm | 808 ±3nm | 808 ±3nm | 940 ±3nm |
| 输出光功率 | 150W | 200W | 250W | 200W |
| 巴条数 | 2~40 | 2~40 | 2~40 | 2~40 |
| 巴条间距 | 1.7mm | 1.7mm | 1.7mm | 1.7mm |
| Fill factor | 83% | 80% | 75% | 75% |
| 发射体个数 | 75 | 40 | 62 | 62 |
| 发射体宽度 | 100μm | 200μm | 100μm | 100μm |
| 光谱带宽FWHM | ≤6nm | ≤4nm | ≤4nm | ≤6nm |
| 光谱带宽FW90%E | ≤6nm | ≤6nm | ≤8nm | ≤8nm |
| 快轴发散角 | 35度 | 35度 | 35度 | 35度 |
| 慢轴发散角 | 8度 | 8度 | 8度 | 8度 |
| 偏振模式 | TM | TE | TE | TE |
| 波长温度系数 | ~0.28nm/℃ | ~0.28nm/℃ | ~0.28nm/℃ | ~0.34nm/℃ |
| 工作电流Iop | ≤170A | ≤190A | ≤250A | ≤250A |
| 阈值电流Ith | ≤15A | ≤25A | ≤32A | ≤18A |
| 工作电压Vop | ≤2V | ≤2V | ≤2V | ≤2V |
| 斜效率 | ≥1W/A | ≥1.1W/A | ≥1.15W/A | ≥1.05W/A |
| 功耗效率 | ≥42% | ≥50% | ≥52% | ≥50% |
| 脉宽 | ≤0.3ms | ≤0.3ms | ≤0.3ms | ≤1.2ms |
| 占空比 | ≤10% | ≤10% | ≤10% | ≤10% |
| 工作温度 | 15-25℃ | 15-25℃ | 15-25℃ | 15-25℃ |
| 存储温度 | -40~60℃ | -40~60℃ | -40~60℃ | -40~60℃ |
| 制冷介质 | 去离子水 | 去离子水 | 去离子水 | 去离子水 |
| 流量/巴条 | 0.5~0.7L/min | 0.5~0.7L/min | 0.5~0.7L/min | 0.5~0.7L/min |
| 输入压力 | 380kPa | 380kPa | 380kPa | 380kPa |
| 电导率要求 | 0.2~0.5Ω-cm | 0.2~0.5Ω-cm | 0.2~0.5Ω-cm | 0.2~0.5Ω-cm |
