仪器简介：
XAU-4CS是一款设计结构紧凑，模块精密化程度*的光谱分析仪，采用了下照式C型腔体设计，是一款一机多用型光谱仪。
应用核心EFP算法和微光聚集技术，既保留了专用测厚仪检测微小样品和凹槽的性能，又可满足微区RoHS检测及成分分析。
被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。
产品优势：
技术参数：
1. 成分分析范围：铝（Al）- 铀（U）
2. 成分检出限：1ppm
3. 涂镀层分析范围：锂（Li）- 铀（U）
4. 涂镀层检出限：0.005μm
5. 最小测量直径□0.1*0.3mm（最小测量面积0.03mm²）
标配：最小测量直径0.3mm（最小测量面积0.07mm²）
6. 对焦距离：0-30mm
7. 样品腔尺寸：500mm*360mm*215mm
8. 仪器尺寸：550mm*480mm*470mm
9. 仪器重量：45KG
10. XY轴工作台移动范围：50mm*50mm
11. XY轴工作台**承重：5KG
多元迭代EFP核心算法
专业的研发团队在Alpha和Fp法的基础上，计算样品中每个元素的一次荧光、二次荧光、靶材荧光、吸收增强效应、散射背景等多元优化迭代开发出EFP核心算法，结合*的光路转换技术、变焦结构设计及稳定的多道脉冲分析采集系统，只需要少量的标样来校正仪器因子，可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。
单涂镀层应用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂镀层应用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金镀层应用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分应用：如NiP/Fe，通过EFP算法，在计算镍磷镀层厚度的同时，还可精准分析出镍磷含量比例。
重复镀层应用：不同层有相同元素，也可精准测量和分析。
如钕铁硼磁铁上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，**层Ni和第三层Ni的厚度均可测量。
有害元素检测：RoHS检测，可满足铅（Pb）、汞（Hg）、镉（Cd）、六价铬（Cr VI）等有害元素的成分检测及含量分析
