主要产品技术特征及指标：
● 软件界面友好、科学、直观。可对当前曝光区域，待曝光区域，曝光参
数等信息提供实时的图形化。
● 通过选配背面对准模块，可实现双面对准曝光，将该机型升级为具有双
面对准曝光功能步进投影光刻机。
● 配置焦面检测自动控制系统，焦面位置设定后，曝光过程中自动实时完
成焦面调整。
● 采用冷光膜与i线照明系统，曝光波长为365nm，曝光面为冷光，曝光
图形方、陡、直。
● 支持真空接触曝光，硬接触曝光，压力接触曝光，接近式曝光四种曝光
功能。
● 采用技术-积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明不均匀优于2%。
● 采用*的离轴对准系统，对准过程自动完成，对各种不同大小的基片，（含碎片）对准十分适用。
● 对准精度：±0.5 μm。
● 照明均匀性：2%。
● 曝光面积：3mm×3 mm ~ 50mm×50mm。
● 调焦台运动灵敏度：1 μm。
● 掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸。
● 调焦台运动行程：5mm。
● 光刻分辨力：0.3μm ~ 5 μm。
● 检焦：CCD检测，检测精度0.5 μm。
● 光源：350W球形汞灯。
● 汞灯功率：1000W（直流，进口直流高压汞灯德国欧司朗)。
