主要特点：
手动转塔；
无摩擦主轴，试验力精度高；
高精度光学测量系统，精密座标试台；
中/英文界面转换；
试验过程自动化，操作简单，无人为操作误差；
可选配努氏压头进行努氏硬度试验；
可选配CCD摄像装置及图像处理系统；
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美国ASTM E384。
应用范围：
渗碳层、陶瓷、钢、有色金属；
薄板、金属薄片、电镀层、微小试件；
氮化层、渗碳层和淬火硬化层的深度测量；
适用于平行平面和微小零件及超薄零件的精密显微维氏硬度测量。
硬度范围 5-3000HV
试验力 0.09807、0.2452、0.4903、0.9807、1.961、2.942、4.604、9.807牛顿
（10、25、50、100、200、300、500、1000克力）
硬度标尺 HV0.01、HV0.025、HV0.05、HV0.1、HV0.2、HV0.3、HV0.5、HV1
总放大倍率： 400X（测量）、100X（观察）
分辨率：0.25um
测量范围 200um
精度 符合GB/T4340.2--1999
试样允许高度： 75mm
压头中心至机壁距离：110mm
电源 交流220伏，50/60赫兹
外形尺寸 470*320*500mm
重量 约40千克
标准配备：
座标试台：（台面尺寸100*100mm、行程25*25mm、测微头分度值0.01mm）1个
细轴试台：1个 薄板试台：1个 平口钳：1个 大、小V型块：各1个
金刚石角锥压头：1个 标准显微硬度块：2块
手动转塔；
无摩擦主轴，试验力精度高；
高精度光学测量系统，精密座标试台；
中/英文界面转换；
试验过程自动化，操作简单，无人为操作误差；
可选配努氏压头进行努氏硬度试验；
可选配CCD摄像装置及图像处理系统；
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美国ASTM E384。
应用范围：
渗碳层、陶瓷、钢、有色金属；
薄板、金属薄片、电镀层、微小试件；
氮化层、渗碳层和淬火硬化层的深度测量；
适用于平行平面和微小零件及超薄零件的精密显微维氏硬度测量。
硬度范围 5-3000HV
试验力 0.09807、0.2452、0.4903、0.9807、1.961、2.942、4.604、9.807牛顿
（10、25、50、100、200、300、500、1000克力）
硬度标尺 HV0.01、HV0.025、HV0.05、HV0.1、HV0.2、HV0.3、HV0.5、HV1
总放大倍率： 400X（测量）、100X（观察）
分辨率：0.25um
测量范围 200um
精度 符合GB/T4340.2--1999
试样允许高度： 75mm
压头中心至机壁距离：110mm
电源 交流220伏，50/60赫兹
外形尺寸 470*320*500mm
重量 约40千克
标准配备：
座标试台：（台面尺寸100*100mm、行程25*25mm、测微头分度值0.01mm）1个
细轴试台：1个 薄板试台：1个 平口钳：1个 大、小V型块：各1个
金刚石角锥压头：1个 标准显微硬度块：2块
