功能介绍
特性
■ 提供能够扣除本底的手部α辐射沾污控制功能
■ 250 cm2 面积气体正比探测器，带0.8 mg/cm2 薄聚酯窗
■ 对239Pu的2π效率：20%
■ 声音和视觉沾污警报
■ 提供数字和图形两种显示
■ 可增加可插入的足部 α 沾污探头
描述
CM 250SP 设备允许方便和精确地控制在受控区域中工作人员手部的Alpha 沾污。这一设备作为一个紧凑和完整的仪器提交使用，包括探测器、一个处理硬件、LCD显示以及视觉和声音报警装置。其机盒可以在桌面上使用，或者安装在墙上。 一个4-按钮键盘可用于通过用户友好的软件作参数定义和操作控制。通过切断红外束流触发测量启动。测量的结果作为数字和模拟值显示在一个大 LCD 图形背光屏幕上。当测量值超出一个可调的阈值时视觉和声音警报被触发，也可以把一个SPA 525-1 足部探头联接到CM 250SP设备上、提供一个紧凑和便于使用的手足监测器。
规格
■核探测
▲探测器：气体正比探测器DPA 250，带0.8 mg/cm2 (6 μm) 聚酯薄窗.
– 活性区域：200 x 125 mm
– 不锈钢保护网的透明度：65%。
▲本底计数率：一般 0.15 c/s (<0.20 c/s)。
▲探测特性：Pu-239 源，5 cm2面积，中心位置，与保护网的距离为1 mm 。
▲2π探测效率：一般为20% (>10%)。
▲薄源(s = 0.50) 响应 ：每个Bq 0.10 c/s 。
| Pu-239 α探测限 | 2/3情况 | 90%情况 |
| 5s | 5.5Bq(0.022Bq/cm2) | 11Bq(0.042Bq/cm2) |
| 10s | 3.5Bq(0.014Bq/cm2) | 6.9Bq(0.027Bq/cm2) |
▲设置– 通过4-按钮键盘作参数设置（使用访问代码）和操作控制。
– 带与这些键和屏幕上信息相关的菜单条的友好菜单。
– 从1到99秒的可调测量时间。
–从1 到 999 c/s可调沾污阈值。
– 可调的本底高度阈值和控制周期数，不作本底测量。
▲测量顺序：通过切断一个红外线束流启动测量。
– 接着显示信息 “Hａnd Presence（手已放上）” 和倒数的经过时间。
– 如果超过沾污阈值、或者在测量结束前取下手，则发出声音警报。
– 显示测量结果的数字和图形显示，扣除本底。
– 屏幕上的信息： “Free the Unit（释放设备）”, “Waiting for background control （等待本底控制） ”, “Repeat control （重复控制）”,...
▲报警– 如果超出沾污阈值，则发出声音警报。
– 红色指示灯“HAND CONTAMINATION（手沾污）” 和图标显示。
– HAND（手）带提到的“CONTAMINATED（被沾污）”.
– 红色指示灯“OUT OF OPERATION（操作故障）” 和故障显示。
■电气设备
▲电源：使用230 V ac/48-62 Hz 干线电源操作；功耗：<60 mA。
■机械
▲机盒：使用可去污的聚酯、防御裂变产物。
▲尺寸：400 x 213 x 93 mm (15.7 x 8.4 x 3.7 in.) (H x W x D)。
▲重量 – 4.5 kg (9.9 lb)。
■环境条件
▲温度：+10~+45℃
