压力消解罐（水热合成釜）DAB

压力消解罐（水热合成釜）

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Chemtron消解罐压力高达200bar，为难以消解的样品提供理想的解决方案，可配套的加热单元，加样简单便捷，实验重复性强。

水热合成实验

水热合成法是指温度为100～1000 ℃、压力为1MPa～1GPa 条件下利用水溶液中物质化学反应所进行合成的方法。在亚临界和超临界水热条件下，由于反应处于分子水平，反应活性提高，因而水热反应可以替代某些高温固相反应。又由于水热反应的均相成核及非均相成核机理与固相反应的扩散机制不同，因而可以创造出其它方法无法制备的新化合物和新材料。
水热合成可分为：水热氧化，水热沉淀，水热合成，水热还原，水热分解，水热结晶等

安全
压力消解罐采用高品质不锈钢材质和高密度PTFE内衬，确保实验操作的可靠性和安全性。
>所有容器均经过TUV测试认证
>操作压力可达200bar

>温度可达250℃，实验周期可达数天
>爆破片保证操作人员的安全
>特殊密封技术保证易挥发物质不会流失和扩散
>当消解罐被打开时，控制压力将会释放

内衬技术
根据容积不同，TFM-PTFE高密度内衬从50ml到250ml范围可选，安全耐腐蚀，使用寿命长，操作简单便捷
可靠的反应控制
高精度温度控制器确保所有参数统一监控，该控制器可以进行升温程序编程。Chemtron消解罐可与实验室日常工作结合起来，进行隔夜实验测试，避免样品转移带来的麻烦

加热
Chemtron针对不同体积的消解罐，可提供不同数量孔位的加热装置，最多可支持12位消解罐同时进行温度控制

应用
制备超细颗粒，无机薄膜，微孔材料，超临界合成等工艺研究难消解样品的高温高压消解

技术参数