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  • 上海伯东代理分子束外延设备 MBE-8

上海伯东代理分子束外延设备 MBE-8

参考价
1000000-10000000
具体成交价以合同协议为准
  • 型号
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新时间2023-02-10
  • 厂商性质代理商
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量200
  • 人气值3101
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位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业(上海)有限公司创建于1995年12月,, 是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业,公司注册资金为200万美元,到目前为止公司从业员工有400多人。
伯东企业(上海)有限公司真空产品事业部()专业销售及维修德国Pfeiffer单双级旋片泵,干泵,罗茨泵,分子泵;应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);检漏仪,质谱仪,真空系统等等, 维修技术力量雄厚,保证 100 % 拥有标准的德国Pfeiffer原厂测试设备及调整工具和德国Pfeiffer专业培训工程师,多年来致力于真空系统的安装、调试、维修、拆机、保养等,具有优良的专业技能和服务意识,并获得原厂*维修资质证书。利用 Pfeiffer 进口检测设备对维修后的产品做*性能测试。另外公司还代理美国Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低温泵, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源,HVA 高真空阀门。公司一直坚持品质*、信誉*的原则,为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、ISO9001-2000质量体系认证、ISO14001-1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本,不断开拓进取的精神,为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。

为将国外的高科技产品与中国经济和社会的飞速发展紧密结合,为促进国内.贸易的快速发展,伯东企业(上海)有限公司,以高科技推动现代化,以高质量服务全中国, 坚持不懈,奋斗不息。伯东公司是一家专业代理公司,代理上公司的 半导体设备.接插件.电子器件.精密仪器等,公司秉承 改革.创新.求真.发展的基本原则, 精心构建诚信、互动、共赢的价值体系, 为所有的客户提供优质的产品, 同时,提供全伯东集团网络支持下的较早.Z快的信息与Z及时周到的服务,伯东公司愿意与世界各地的客户联手合作,共建一个诚信.发展.共同进步的良好环境.

 

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产地进口 加工定制 适用领域其他
上海伯东代理分子束外延设备 MBE-8 可以成长三寸以下的样品, 样品温度可以加到 900 摄氏度, 如果是两寸以下的样品可以到 1100 摄氏度. 可以装置 8个束源炉, zui大容量 40cc. 配备晶振, 束流监控器, 高能电子枪以及监控软件. 可以装置固体源, 气体源 / ALD阀
上海伯东代理分子束外延设备 MBE-8 产品详情

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准


分子束外延 MBE-8

分子束外延 MBE-8
上海伯东代理分子束外延设备 MBE-8 可以成长三寸以下的样品, 样品温度可以加到 900 摄氏度, 如果是两寸以下的样品可以到 1100 摄氏度. 可以装置 8个束源炉, zui大容量 40cc. 配备晶振, 束流监控器, 高能电子枪以及监控软件. 可以装置固体源, 气体源 / ALD阀, 等离子增强型束源炉 ( plasma cell ) 及电子回旋共振束源炉 ( ECR plasma cell ). 可装电子枪 E-beam.

此腔体是用 SUS316 不锈钢制作, 真空可到 2×10-10 torr, 使用上海伯东德国 Pfeiffer HiPace 700 分子泵.内部有全罩式液态氮冷罩, 可提供非常大的抽气效率. 分子束外延设备在长二维材料以及拓扑材料, 氧化物方面都有不错的性能. 如: III-V 族, II-VI 族, Si / SiGe, 金属与金属氧化物以及 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, AlGaInN, CIGS, OLED 等.

分子束外延 MBE-8 主要参数
• Cylindrical SS316L electro-polished chamber with Liquid N2 Cryopanel
• ~2E-10 Torr Base Pressure
• UHV pumps and gauges
• 3-in substrate size
• 4-axes sample manipulator (XYZ, and Rotation)
• SiC heating element with sample heating temperature: 900°C
• 2-12 slots for effusion cells, gas source, vavle crackers, and/or plasma source
• Standard RHEED system (real-time epitaxy monitoring)
• Beam flux monitor
• Mask system with z-motion
• Pressure control system: upstream and downstream
• FBBeam System Control Software

分子束外延设备优势
清洁基体表面, 无氧层
外延 ( 原子层 ) 沉积
沉积薄膜均匀性好, 纯度高
金属种子, 半导体材料和掺杂剂的原位沉积

准确控制热蒸发
使用 RHEED 系统进行现场涂层监测
沉积薄膜的超竖琴 XRD 图谱




若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生



关键词:监控软件
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