ASML浸没式光刻机XT:1900i是XT：1700Fi的自然扩展，通过提供40nm的半间距分辨率，支持半导体行业所要求的设备缩小的持续驱动器。该系统的特点是一个基于已经被证明的在线反辐射透镜概念的投影透镜，但具有增强型的，行业的NA为1.35。覆盖被改进到6nm的单机，并使用系统在恰克奉献模式下降到远低于5nm，使其成为32nm及以下的双模式应用的启用器。
ASML浸没式光刻机XT:1900i是建立在已建立的双链扫描平台上的。该平台的成熟技术降低了风险，提高了可靠性。更重要的是，双扫描平台的双级架构，加上XT：1900Gi提高的扫描速度600 mm/s的速度，达到每小时131个晶片的高容量吞吐量。XT：1900i使用了与XT：1700i相同的水解石浸没技术，并将其与一个新的、非常高的NA（1.35）投影系统相结合。Starlith1900i投影透镜是卡尔蔡司公司生产的第五代193nm浸没式透镜和第二代反折射透镜。该镜头提供了0.85到1.35的NA范围，并支持26mmx33mm的场尺寸。
ASML浸没式光刻机XT:1900的照明器支持在不同偏振模式下的连续可调照明设置，改善瞳孔参数，如椭圆度和远心性。对于偏振和非偏振的使用，该系统为所有支持的照明模式提供了的效率。使用衍射光学元件(DOE)，常规照明的部分相干（σ）范围可以在0.12到0.94之间变化，环形照明的最小环宽度为0.12，西格值为0.97，这与几何西格值为1.0有关。XT：1900i的水解石浸没技术是在XT：1700i中使用的技术的一个演变。流体密封方法是基于使用浸没罩在镜头下的局部密封。除了浸没罩的水密封外，晶片的热控制是任何浸没系统的一个关键方面。良好热控制的两个最重要的模块是浸没罩和晶圆台。
