ASML ArF光刻机AT:1200作为其综合成像设施的一部分,SUNY Poly 拥有一台 TWINSCAN AT:1200 193 nm“干式”扫描仪;(0.85 NA)。该工具与 SUNY Poly 的所有工具集一样,可用于对 300mm 晶圆进行成像,具有出色的晶圆均匀性,同时每小时可交付约 100 多个晶圆。尽管该工具是为满足 90nm 节点的需求而制造的,但 SUNY Poly 团队经常展示使用该工具打印低于 90nm 特征的能力。
公司主营实验室分析检测仪器设备,以实验室整体建设为发展方向。公司目前涉及电子电器、医药生物、石油化工、食品、机械、新材料、环境、科研高校等诸多领域。联合山东医药化工设计院,美国安捷伦、美国热电、日本岛津、江苏天瑞等众多品牌及多个***重点实验室从实验室布局设计出图、基础设施建设、仪器设备供应、方法开发建立、后期运营管理,形成完整的专业实验室建设体系,达到一站式服务,为众多行业客户提供更为完善的整体解决方案。
公司主营产品分为四大类,光谱仪、色谱仪、质谱仪和环境在线检测。
能量色散X荧光光谱仪(EDX)、波长色散X荧光光谱仪(WDX)、等离子体发射光谱仪(ICP)
、光电直读光谱仪(OES)、原子吸收分光光度计(AAS)、原子荧光光谱仪(AFS)、拉曼光谱仪(Raman)、碳硫分析仪(CS)、红外光谱仪、矿浆载流分析仪(OSA)、气相色谱仪(GC)、液相色谱仪(LC)、气相色谱-质谱联用仪(GC-MS)、液相色谱-质谱联用仪(LC-MS)、电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)、水质在线分析仪(WAOL);
ASML ArF光刻机AT:1200作为其综合成像设施的一部分,SUNY Poly 拥有一台 TWINSCAN AT:1200 193 nm“干式”扫描仪;(0.85 NA)。该工具与 SUNY Poly 的所有工具集一样,可用于对 300mm 晶圆进行成像,具有出色的晶圆均匀性,同时每小时可交付约 100 多个晶圆。尽管该工具是为满足 90nm 节点的需求而制造的,但 SUNY Poly 团队经常展示使用该工具打印低于 90nm 特征的能力。
产品名称 | 参考价 | 地区 | 公司名称 | 更新时间 | |
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