细节展示
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| 整机工作情况 | 整个管子辉光情况 | 高真空下辉光情况 |
PECVD 系统
微型PECVD系统，它包括小型真空管式炉，石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽：0-150W可调; 温度范围宽：100-1200度可调;溅射区域宽：0-600mm可调;适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
主要特点
1. 薄膜沉积速率高：采用了甚高频技术，大大的提高了薄膜的沉积速率，沉积速率可达10Å/S;
2. 大面积均匀性高：采用了*的多点射频馈入技术，特殊气路分布和加热技术等，使得薄膜均匀性指标达到8%;
3. 一致性高：用半导体行业的*设计理念，使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%;
4. 工艺稳定性高：高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定;
5. 选配物料喷射系统，可将原料直接喷射到反应区;
6.号：ZL.0 (产品，防伪必究)。
1.加热系统
| 温度 | 1200℃ |
| 使用温度 | ≤1100℃ |
| 炉膛有效尺寸 | Φ80mm（适用于2-3英寸样品，炉管直径可根据实际需要定制。） |
| 炉膛材料 | 氧化铝、高温纤维制品 |
| 热电偶类型 | K型热电偶 |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 控温方式 | 30段可编程控温，PID参数自整定 |
| 加热长度 | 230mm |
| 加热原件 | 电阻丝 |
| 供电电源 | 单相，220V，50Hz |
2、PE系统
| 功率输出范围 | 0W~150W |
| 射频输出接口 | 50 Ω, N-type, female |
| 功率稳定度 | ≤5W |
| 谐波分量 | ≤-50dbc |
| 供电电压 | 单相交流（187V-253V） 频率50/60HZ |
| 整机效率 | >=70% |
| 功率因素 | >=90% |
| 冷却方式 | 强制风冷 |
3、三路质子流量控制系统
| 连接头类型 | 双卡套不锈钢接头 |
| 标准量程（N2) | 200sccm，500sccm、1000sccm （可根据用户要求定制） |
| 准确度 | ±1.5%F.S |
| 线性 | ±1%F.S |
| 重复精度 | ±0.2%F.S |
| 响应时间 | 气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec |
| 工作压差范围 | 0.1～0.5 MPa |
| 压力 | 3MPa |
| 接口 | Φ6,1/4'' |
| 显示 | 4位数字显示 |
| 工作环境温度 | 5~45高纯气体 |
| 压力真空表 | －0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
| 截止阀 | Φ6 |
| 内外双抛不锈钢管 | Φ6 |
4、低真空机组
| 空气相对湿度 | ≤85% |
| 工作环境 | 5℃～40℃ |
| 工作电电压 | 220V±10% 50~60HZ |
| 功率 | 1KW |
| 抽气速率 | 10m³/h |
| 极限真空 | 5X10-1Pa |
| 工作压力范围 | 1.01325X105～1.33X10-2Pa |
| 耐压值 | 0.03MPa |
| 容油量 | 1.1L |
| 进气口口径 | KF25 |
| 排气口口径 | KF25 |
| 噪音 | 50dB |
| 连接方式 | 采用波纹管，手动挡板阀与波纹管相连 |
