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  • 实验室滑轨炉PECVD系统设备

S-1200H-CVD 实验室滑轨炉PECVD系统设备

参考价
面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号S-1200H-CV
  • 品牌
  • 所在地郑州市
  • 更新时间2023-06-08
  • 厂商性质其他
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量42
  • 人气值54
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河南热处理设备有限公司是一家专业从事热处理产品的研发、生产、制造、销售、服务于一体的企业。公司产品涵盖箱式炉、高温管式炉、气氛炉、箱式马弗炉、CVD系统、PECVD设备、牙科炉、升降炉、真空炉、定制炉型等,广泛用于粉末冶金、真空钎焊、陶瓷烧结、新能源材料研发、金属光亮处理、零部件退火、科学研究等多个领域。多年来公司坚持以客户需求为导向,致力于不断提高产品品质和完善技术服务,凭借过硬的技术、丰富的实践积累,先后研发出了一系列具有水准的实验电炉和工业炉。电炉拥有完整、科学的质量管理体系,标准化的生产制造车间,具有年产1000台电炉生产制造能力,生产规模位居,是国内具有影响力的实验电炉、工业炉生产制造商。公司目前有一线员工百余人,多名专业热工技术工程师和设计制造工程师, 并联合多所重点科研院校共同建立了多个技术研发项目,为每一位客户提供高技术含量的产品解决方案和优质的服务是电炉所有人的神圣职责!
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实验室滑轨炉PECVD系统设备通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。
实验室滑轨炉PECVD系统设备 产品详情
功能特点:
本套PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择
产品用途:
高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
产品参数
  • 炉体结构:双层炉壳间配有风冷系统,有效保证外壳表面温;
  • 炉子底部装有一对滑轨,移动平稳
  • 炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却
  • 炉盖可开启,可以实时观察加热的物料
  • 电源电压:AC220V 50/60Hz;
  • 功率:4KW
  • 炉管材质:高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小
  • 炉管尺寸:Φ60*1250mm(可定制)
  • 加热系统:加热元件采用优质合金丝0Cr27Al7Mo2,表面负荷高、经久耐用
  • 加热区长度:400mm(可定制)
  • 恒温区长度:200mm(可定制)
  • 工作温度:≤1150℃(可定制)
  • 温度:1200℃(可定制)
  • 升温速率:10℃/min
  • 极限真空:6.0×10-5Pa
  • 工作真空:7.6×10-4Pa
  • 温控系统:温度控制采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能、30段升降温程序
  • 测温元件:N型热电偶
  • 恒温精度:±1℃
  • 混气系统:四路质量流量计:数字显示、气体流量自动控制、内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀、管路采用不锈钢管,接口为Φ6卡套、每路气体进气管路配有不锈钢针阀、通过控制面板上的旋钮来调节气体流量
  • 流量规格:0~200sccm
  • 流量精度:±1.5%
  • 高真空真空系统:采用双级旋片真空泵+分子泵,极限真空可达4.0*10^-4Pa
  • 复合真空计,配置电阻规+电离规
  • 抽速:110L/S
  • 冷却:风冷
  • 射频电源系统输出功率:0-300W
  • 功率稳定度:±0.1%
  • 射频电源频率:13.56MHz 稳定性±0.005%
  • 反向功率:120W
  • 射频电源电子输出端口:UHF
  • 冷却:风冷
  • 电源:AC187-253V 50/60Hz
  • 可选配件:混气系统,中、高真空系统,各种刚玉、石英坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪。
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