操作简单保证用户友好的操作体验。
- 快速连接进样系统
- 下拉门高度与工作台一样，轻松使用锥部
- 几何架构可轻松与外围设备连接
- 直观式平台软件可实现无缝工作流程
在更短的时间内完成更多的分析，提高生产率
- 减少软件和硬件培训
- 可以很好地与自动化系统和样品处理系统兼容
- 单次测量模式下综合去除干扰
- 减少偏移和操作人员的干扰
- 完善的基质耐受性界面
- 配备全新的电子设备
- 新型耐用射频发生器
- 热等离子体和冷等离子体操作可靠性强
去除干扰可保证数据的准确性，同时我们拥有氦动能识别 (He KED) 技术能够在单次测定模式下检测所有分析物。
较之单独使用 He KED，我们将 QCell 碰撞池/反应池和的 Flatapole 设计结合，通过巧妙地动态应用低质量截留功能 (LMCO) 可进一步减少 BEC。
直观式 Thermo Scientific™ Qtegra™ Intelligent Scientific Data Solution™ (ISDS) 软件不仅具有实现具挑战的应用的灵活性，还具备所有实验室所需的支持功能。
技术参数：
| 环境要求 | 温度范围：15-35 ℃； 温度变化率：< 2 °C/h; 湿度范围：20-80%（无冷凝） | ||
| 配置 | 雾化器：硼硅玻璃， 雾化室：石英，旋流， 等离子炬：石英，可装载，无屏蔽； 进样器：石英，2 .5 mm内径；选项为：1 .0和2.0mm内径； 采样锥/接口: 采样锥 Ni，1.1mm孔径；耐受高盐基质的接口；选项为：Ni锥，耐受的接口（已提供）和高灵敏度的； 数字控制等离子体气流：3路； 氦碰撞池质量流量控制MFC | ||
| 氧化物和双电荷比率 | CeO/Ceb ＜2； Ba++/ Ba+b ＜3 | ||
| 随机背景（cps） |
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| 短期稳定性 | ＜2% RSD（10 min） | ||
| 长期稳定性 | ＜3% RSD（3 h） | ||
| 同位素比率精度 | 107Ag/109Ag : ＜0.1% RSD | ||
| 等离子体源 | 等离子体炬：石英，推入式（Push-in），单片； 平行和垂直的位置：+/- 2 mm； 采样深度：0～15 mm | ||
| RF发生器 | 固态RF发生器，~27 MHz； RF功率范围：400W~1600W | ||
| 离子光学 | RAPID透镜：90度离子透镜，操作在单个固定电压下； 电子连接：无缆，固定位置，弹簧安装的黄金触点 | ||
| 碰撞/反应池 | 标配的MFC：纯He碰撞气； 可选的MFC：反应气体混合物： O2, NH3/He, H2/He； 气体纯度：> 99.999 % ; 气体流速：10 L/min; 气体压力：0.1 - 0.15 MPa (1 - 1.5 bar, 15 - 22.5 psi) | ||
| 四极杆质量分析器 | 场：虚拟的双曲面场; 频率：2 MHz; 质量范围：2-290 u; 扫描速度：>3700 amu/sec，Li~U带40个区间质量; 质量稳定性：< ± 0.025每天; 丰度灵敏度：< 0.5 ppm ; 分辨率：用户可定义 | ||
| 离子检测系统
| 在4个数量级上同时进行脉冲/模拟检测; 最小驻留时间：100 µs 脉冲和模拟; 动态范围：>9个数量级 | ||
| 真空系统 | 配置：三阶，差分泵; 真空泵:分流分子涡轮泵,外部后部的机械泵; 抽真空时间：在维护后<15 min，可抽到< 1 x 10-6 mbar | ||
| 供电 | 供电：200-240 V AC, 50/60 Hz 单相 | ||
| 功率 | 3000 VA; 有效: 2200 W | ||
| 冷却水 | 温度： 20 ℃ ~ 30 °C； 供应流速：> 5.5 L/min | ||
| 氩气
| 纯度：> 99.996 % ； 流速：24 L/min ； 压力：0.55 - 0.6 MPa (5.5 - 6.0 bar; 82.5 - 90 psi) |
