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仪表网>产品库>实验仪器>其他实验仪器>镀膜机>离子溅射仪NE-900
  • 离子溅射仪NE-900

离子溅射仪NE-900

参考价
面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新时间2023-07-01
  • 厂商性质生产厂家
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量32
  • 人气值75
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纳恩科技总部位于深圳市南山区,在香港设有研发分公司,公司专注 于等离子材料表面处理和真空镀膜技术研发,目前主要产品包括真空 等离子磁控溅射镀膜设备,离子溅射仪,等离子刻蚀设备,等离子表 面处理设备,辉光放电仪等。 

 

公司核心研发团队来源于香港大学等离子实验室,香港理工大学材料 工程学院和美国佐治亚理工学院的微电子学院。自成立以来,纳恩科 技围绕等离子处理系统所需核心电源及底层算法进行技术布局,不断 拓展自主设计能力。目前已完成以MCU,ARM为核心的射频芯片开 发平台,实现了芯片的结构化和模块化开发。 具有高精度模拟、网络 阻抗匹配、功率驱动、功率器件、射频和底层核心算法的设计能力, 可针对不同细分领域等离子处理系统需求,快速做出底层硬件组合, 提高等离子系统的稳定性和效率。

 

纳恩科技成立至今已为清华大学、香港大学、华为2012实验室、北京大学、中科院、南方科技大学、美国康奈尔大学、宾夕法尼亚大学、等中外众多有名企业、大学研究机构提供过等离子外理设备和解决方案,并专注于发展面向未来新材料市场的应用技术,助力客户开发出激动人心的新工艺!

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产品简介:离子溅射仪NE-900依据二极(DC)直流溅射原理。溅射电流调整控制器、微型真空气阀在工作···
离子溅射仪NE-900 产品详情

离子溅射仪NE-900依据二极(DC)直流溅射原理。溅射电流调整控制器、微型真空气阀在工作时结合内部自 动控制电路控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体。根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层均匀纯净。


产品参数:

型号离子溅射仪NE-900
主机规格300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部电极)50mm×0.1mm(D×H)
靶材Au(标配)
样品室硼硅酸盐玻璃 160mm×120mm(D×H)
靶材尺寸Ф 50mm
真空指示表真空度:≤ 4X10-2 mbar
离子电流表电流:50mA
定时器最长时间:0-360S
微型真空气阀可连接φ 3mm 软管
可通入气体多种
电压-1600 DCV
机械泵标准配置 2L/S(国产 VRD-8)


离子溅射仪NE-900产品特点:

1、简单、经济、可靠、外观精美。
2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。
3、SETPLASMA 手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。
4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。
5、同时可以通过更换不同的靶材(金、铂、铱、银、铜等),以达到更细颗粒的涂层。

6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。


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