用途：
本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜。特别适合于高科技企业、科研单位和高校用于膜层研究和膜系开发。
主要技术参数：
1. 真空室：300*300*H450mm；2. 可镀工件直径：φ100mm,配抽拉式样品台，样品可旋转；另配备铜基板样品台；
3. 极限真空度：优于6*10-5Pa;4. 抽气时间：大气压~6*10-4Pa小于30min；5. 蒸发：电阻式蒸发电极（4对） 功率：2KW；配备2套数显蒸发电源，其中一套电源可切换至2组电极。
6. 开启方式：正面开门结构，便于换丝及装料；7. 真空系统：机械泵+分子泵；
8. 膜厚仪：石英晶振膜厚仪膜厚仪 ，配水冷探头一套；
9. 水冷系统：系统配备一套冷却水循环系统。
设备结构介绍：
该设备由真空室、真空机组和电气系统组成
- 真空室
方形腔体，侧部抽气，正面开门。不锈钢材质，配φ100观察窗（含防污挡板）、预抽接口、充气接口；内部有底板、蒸发源（四组蒸发源相互隔离避免交叉污染），蒸发源上配有电动挡板装置等；
- 真空系统及进气
采用600L分子泵+8L旋片式机械泵。采用真空波纹管连接，配有复合式数显真空测量仪表。
可根据需要选配流量计，用于进气流量精确控制。
- 电气系统
电气系统包括真空机组控制、蒸发与烘烤控制、真空测量控制等部分组成。有安全互锁机构，有效防止误操作发生。系统配有2套蒸发电源，通过切换选择上电。
- 膜厚测量装置：采用石英晶振膜厚仪及水冷探头一套。
蒸发示意图：
气路原理图
水冷电极结构
