我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
PlasmaPro 100 ALE 的特点:
- 准确的刻蚀深度控制;
- 光滑的刻蚀表面
- 低损伤工艺
- 数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD
- 高选择比
- 能加工200mm的晶圆
- 高深宽比(HAR)刻蚀工艺
- 非常适于刻蚀纳米级薄层
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
PlasmaPro 100 ALE 的特点:
产品名称 | 参考价 | 地区 | 公司名称 | 更新时间 | |
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