| | 设备简介： 双温区的PECVD管式炉系统，组成部分为500W的射频发生器、可定位的独立滑动式烧结炉、高精度质量流量混合系统、稳定防反油真空系统。此款PECVD可用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜。 | |||
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配置详情
| | 1. 清洗镀膜一气呵成，杜绝二次污染； 2. 上开启式结构，方便观察试样； 3. 产品采用全自动控制方式，触摸屏，数字化显示； 4. 可通过炉体滑动来达到快速升温和快速降温的效果； 5. 稳定的射频电源，均匀的温度分布，提高成膜质量； | |||||||
| 产品型号 | NBD-PECVD1200-50IIT | |||||||
| 电气规格 | AC220V 3KW 射频功率：300或500瓦 13.56Mhz | |||||||
| 可达温度 | 1200 ℃ （<1小时） | |||||||
| 连续温度 | 1100 ℃ （连续） | |||||||
| 可达加热速率 | ≤ 20 ℃/分钟 | |||||||
| 加热区长度 | 200mm+200mm（两个加热温区分别加热，分体式设计使温度梯度可以达到极限） | |||||||
| 炉管尺寸 | Φ50*1800mm | |||||||
| 射频线圈 | | 采用多节点镀银的水冷铜线圈，可匹配不同频率的射频电源 | ||||||
| 控制系统 | | 1.可预存15条温度曲线，避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦； 2.实验过程更加直观，操作更加便捷； 3.可另选配无线控制模块，实现远程操控； 4.具有超温报警、断偶提示、漏电保护等。 | ||||||
| 温度精度 | +/- 1 ℃ | |||||||
| 加热元件 | | Mo掺杂的Fe-Cr-Al合金 | ||||||
| 密封系统 | | | ||||||
| 真空度：≤10Pa（机械泵），达到启辉条件。 | ||||||||
| 压力测量与监控 | | 采用数显真空计可直观显示设备的真空度，实验数据及效果更加准确。 | ||||||
| 供气系统 | | 采用质量流量计控制，与设备一体化，方便控制，出厂前已进行漏气测试工作 | ||||||
| 净重 | 100KG | |||||||
| 设备使用注意事项 | 1. 设备炉膛温度≥300℃时，禁止打开炉膛，避免受到伤害； 2. 设备使用时，炉管内压力不得超过0.125MPa（压力），以防止压力过大冲开密封法兰； 3. 高真空下使用时（10的负3次方Pa），设备使用温度不得超过800℃。 | |||||||
| 服务支持 | 1年有限保修，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如炉管和O形圈等） | |||||||
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