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TJQG TJ不锈钢微距掩膜版溅射掩掩模激光精密切割

参考价订货量

46

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具体成交价以合同协议为准
  • 型号TJQG
  • 品牌其他品牌
  • 所在地天津市
  • 更新时间2024-01-06
  • 厂商性质其他
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量136
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华诺激光专注于微米级的激光精密切割、钻孔、狭缝切割、蚀刻、刻线、划片、材料去除、构造、雕刻和特殊材料的打标,主要应用于LED芯片制造,触摸屏,LCD,消费类电子,半导体,MEMS,照明,医疗等行业,以及科研、航天航空等领域

我公司依托*激光技术,致力于激光精密切割打孔,焊接加工研发和代工服务的高科技企业拥有一支经验丰富的技术开发和管理团队,以及超过20台包括紫外激光器,超快激光器,光纤激器,二氧化碳激光器等*进口激光源,以及配套的加工平台,并且还拥有3D显微镜,激光干涉仪,红外热成像仪,二次元等检测和分析工具。

公司激光加工设备针对各种材质:金属及合金、半导体、陶瓷、各种透明材质、薄膜和聚合物等各种材料。且已成功完成1000多个基于以上材料的各种激光微加工试验和方案。

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产地国产 加工定制 最小孔径20um
TJ不锈钢微距掩膜版溅射掩掩模激光精密切割

掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
TJ不锈钢微距掩膜版溅射掩掩模激光精密切割 产品详情

TJ不锈钢微距掩膜版溅射掩掩模激光精密切割微结构加工

掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

掩膜版的应用

每个芯片上的实际电路结构是用掩模版和光刻技术制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外线吸收材料制作的。光敏层即光刻胶被预先喷到半导体表面。

掩模和光刻工艺是很关键的,因为他们决定着器件的极限尺寸。除了紫外线,电子束和X射线也能用来对光刻胶进行曝光 。


掩模版的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中,掩模版作为一个光学元件位于会聚透镜(condenser lens)与投影透镜(projection lens)之间,它并不和晶圆有直接接触。掩模版上的图形缩小4~10倍(现代光刻机一般都是缩小4倍)后投射在晶圆表面。为了区别于接触式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又称为倍缩式掩模(reticle)  。


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