磨料类型:高纯纳米氧化硅微粒
产品特点:吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时,磨抛后工件呈现镜面效果,无划伤、高平坦。
产品工艺及用途:通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶,经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
可定制化:我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。
包裝方式:25KG/桶(也可依客户需求)
无锡吉致电子科技有限公司主要研发生产产品为:抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料,已有20余年的研发经验。
产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘面板显示器等材质的表面深度处理,目前已发展为集研发、生产、销售于一体的现代工业科技企业。现已同多家500强企业建立合作伙伴关系,现员工已经达上百人,公司占地面积30.5亩,厂房面积约24000平方米。
产品质量管理执行ISO质量管理体系标准要求,严格管控每一环节。吉致公司采用精密技术,提供超高质量的产品,有效提高客户所需要的高选择比、高移除率、 高平坦度、低缺陷要求。
磨料类型:高纯纳米氧化硅微粒
产品特点:吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时,磨抛后工件呈现镜面效果,无划伤、高平坦。
产品工艺及用途:通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶,经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
可定制化:我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。
包裝方式:25KG/桶(也可依客户需求)
产品名称 | 参考价 | 地区 | 公司名称 | 更新时间 | |
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