平面度和应力测试仪可非接触式测量各种反射硅片和玻璃表面平面度、波纹度和薄膜应力,广泛用于晶圆硅片、反射镜、金属表面或抛光聚合物。
平面度和应力测试仪的光学测量原理确保了高精度。它是基于对垂直入射激光束沿恒定步长线的反射角的测量。表面形状可以根据测量点之间反射角的变化来精确计算。
平面度和应力测试仪可测量半导体行业镀膜的薄膜应力,薄膜应力可以通过涂层前后测量的半径来计算。
平面度和应力测试仪特点
标准测量面积为200mm，*大的测量面积可订做而不会降低精度
测量精度高,分辨率为0.1弧秒，表面形状再现性达到100nm
测量工作距离大，测量范围大，适用于测量具有强曲率的表面，如goebel反射镜、硅片或其他表面。所使用的光学测量原理与工作距离无关，并确保了较高的工作距离，因此没有损坏样品的危险。
可选2D或3D测量
软件模块支持测量涂层或薄膜应力,用于通过福克斯理论计算薄膜应力,根据涂覆过程前后的平均曲率半径计算。
平面度和应力测试仪技术规格
表面曲率（P-V）再现精度：≤100 nm**
光学测量系统的分辨率：0.1弧秒
光学测量系统的精度：1弧秒
测量速度：10mm~30mm/秒
测量场:标准：ø200毫米*（可以在没有问题的情况下进行大范围操作）
试样厚度:不受限制
***小曲率半径和根据扫描长度的箭头高度:
200mm：R=18 m 290µm，300mm：R=25 m 435µm，500mm：R=43 m 725µm
自由工作距离: 不受限制
测量波长: 标准：670nm*
自动测量
平面度和应力测试仪的光学测量原理确保了高精度。它是基于对垂直入射激光束沿恒定步长线的反射角的测量。表面形状可以根据测量点之间反射角的变化来精确计算。
平面度和应力测试仪可测量半导体行业镀膜的薄膜应力,薄膜应力可以通过涂层前后测量的半径来计算。
平面度和应力测试仪特点
标准测量面积为200mm，*大的测量面积可订做而不会降低精度
测量精度高,分辨率为0.1弧秒，表面形状再现性达到100nm
测量工作距离大，测量范围大，适用于测量具有强曲率的表面，如goebel反射镜、硅片或其他表面。所使用的光学测量原理与工作距离无关，并确保了较高的工作距离，因此没有损坏样品的危险。
可选2D或3D测量
软件模块支持测量涂层或薄膜应力,用于通过福克斯理论计算薄膜应力,根据涂覆过程前后的平均曲率半径计算。
平面度和应力测试仪技术规格
表面曲率（P-V）再现精度：≤100 nm**
光学测量系统的分辨率：0.1弧秒
光学测量系统的精度：1弧秒
测量速度：10mm~30mm/秒
测量场:标准：ø200毫米*（可以在没有问题的情况下进行大范围操作）
试样厚度:不受限制
***小曲率半径和根据扫描长度的箭头高度:
200mm：R=18 m 290µm，300mm：R=25 m 435µm，500mm：R=43 m 725µm
自由工作距离: 不受限制
测量波长: 标准：670nm*
自动测量
