一、产品介绍：
本公司为专业制造企业，所生产的烘箱取得。HMDS适用行业-硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。

HMDS预处理系统的必要性：
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺显得更为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS 预处理真空系统通过对箱体内预处理过程的真空、烘烤、充氮、洁净、HMDS加液等程式过程，参数控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 
二、产品特点：

1.控制界面：采用日本三菱 PLC+7寸触摸屏控制系统，程式化运行，温度系统，真空系统， 充氮系统，HMDS 注液系统。

2.控制模块：控制模块是本系统的核心模块，它的作用是控制各个模块的动作和时序，完成整个工艺过程。

3.内胆材质：整个系统采用优质级316L不锈钢材料制作，无发尘材料，适用百级光刻间净化环境。

4.密封装置：密封条为高温硅胶制作，可耐温不变形，门与箱体连接密封，加强密封效果。

5.加热装置：加热器采用SUS304#被覆无尘化SHEATHED HEATER寿命长且无污染，依据使用温度调整控制,节约能源。

6.加热方式：采用无触点SCR固态继电器控制每段温区发热管输出功率大小，接近恒定温度时，加热电流变小，使其恒定温度。

7.底部结构：万向移动福马一体承重脚轮，固定好位置可落下支撑脚，方便移动及固定

8.可视窗：采用钢化、双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。

9. 温度传感器 采用日制 PT100 铂金电阻，精度±0.5%，反应灵敏，耐高温。

10.真空系统：双旋片真空泵、真空组件、压力测量等组成，主要作用是置换气体和抽走剩余 HMDS 蒸汽。

11.充氮系统：作用是在置换过程中，用氮气来逐渐稀释空气或药液蒸汽，从而最终替换空气或药液蒸汽的气氛，氮气流量，充入时间可控制。

12.HDMS 注液系统：HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，配置不锈钢药液管道，使真空箱密封性能。

13.保护系统：相序保护，漏电保护，过载保护，控制线路，超温保护，压力过载保护，急停开关，工作状态指示灯。

型号规格参数：